[发明专利]用于使基底表面经受连续表面反应的喷嘴头、装置和方法

摘要

本发明涉及一种喷嘴头(2)、一种用于使基底(6)的表面(8)经受至少第一前驱体(A)和第二前驱体(B)的连续表面反应的装置和方法。具有输出面(3)的喷嘴头(2)包括用于将前驱体(A、B)供应到基底(6)的表面(8)的至少一个前驱体喷嘴(22)和用于将前驱体(A、B)从基底(6)的表面(8)排放的至少一个排放通道(24、26)。输出面(3)按以下顺序包括：排放通道(24)、布置成供应第一前驱体(A)和第二前驱体(B)的至少一个前驱体喷嘴(22；21、23)、和排放通道(24)。

主权项

1.一种用于使基底(6)的表面(8)经受至少第一前驱体(A)和第二前驱体(B)的连续表面反应的喷嘴头(2)，所述喷嘴头(2)具有输出面(3)，所述输出面包括：‑一个或多个前驱体喷嘴(22；21、23)，所述一个或多个前驱体喷嘴布置成将所述第一前驱体(A)和所述第二前驱体(B)供应到所述基底(6)的表面(8)；和‑至少两个排放通道(24)，所述至少两个排放通道用于将前驱体(A、B)从所述基底(6)的表面(8)排放，所述输出面(3)按以下顺序包括：排放通道(24)、布置成供应所述第一前驱体(A)和所述第二前驱体(B)的至少一个前驱体喷嘴(22；21、23)、和排放通道(24)，其特征在于，所述喷嘴头(2)的输出面(3)按以下顺序连续且邻近地包括：排放通道(24)、布置成供应所述第一前驱体(A)和第二前驱体(B)的至少一个前驱体喷嘴(22；21、23)、和排放通道(24)，并且重复一次或多次以形成两个或更多个反应区域(X、Y、Z)。