[发明专利]形成有氟化铝生成防止膜的化学气相沉积工艺腔部件在审
| 申请号： | 201580039534.8 | 申请日： | 2015-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN106687620A | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 金沃律;金沃珉 | 申请（专利权）人： | 株式公司品維斯;金沃律;金沃珉 |
| 主分类号： | C23C24/00 | 分类号： | C23C24/00;C23C16/44;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人： | 杨立 |
| 地址： | 韩国京畿道龙 仁市器兴区东白中央路16番道*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及如下的化学气相沉积(CVD；chemical vapor deposition)工艺腔部件(component)，作为位于化学气相沉积工艺腔的内部的部件，上述化学气相沉积工艺腔部件的特征在于，上述部件为由包含铝元素的材质构成的三维物体，沿着上述部件的三维表面形成有无裂痕的氟化铝(AlF3)生成防止膜，上述氟化铝生成防止膜在上述部件的表面喷涂陶瓷粉而成，上述陶瓷粉包含钇(Y，yttrium)或者由SiC、ZrO2、ZrC、TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiCl2、HfO2中的一种以上的成分构成，上述氟化铝生成防止膜在上述部件的边角及面部不产生脱离现象。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 氟化 生成 防止 化学 沉积 工艺 部件 | ||
【主权项】：
一种化学气相沉积工艺腔部件，作为位于化学气相沉积工艺腔的内部的部件，上述化学气相沉积工艺腔部件的特征在于，上述部件为由包含铝元素的材质构成的三维物体，沿着上述部件的三维表面形成有无裂痕的氟化铝生成防止膜，上述氟化铝生成防止膜在上述部件的表面喷涂陶瓷粉而成，上述陶瓷粉包含钇或者由SiC、ZrO2、ZrC、TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiCl2、HfO2中的一种以上的成分构成，上述氟化铝生成防止膜在上述部件的边角以及面部不产生脱离现象，在0～50℃的温度以及真空状态下，在上述部件的表面喷涂上述陶瓷粉来形成上述氟化铝生成防止膜。
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