[发明专利]非接触供电系统以及对象物供电装置有效

专利信息
申请号: 201580014795.4 申请日: 2015-03-25
公开(公告)号: CN106103181B 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 高津裕二;德良晋;上田章雄;桥爪祥;阿久根圭;林亨 申请(专利权)人: 株式会社IHI
主分类号: B60L11/18 分类号: B60L11/18;H02J50/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 舒艳君,李洋
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的非接触供电系统具备供电用一次线圈,其能够进行非接触供电;以及供电用二次线圈,其能够与供电用一次线圈之间进行非接触供电。供电用二次线圈内含用于非接触供电的二次线圈线,并且形成至少在一部分具有凸状的面的二次外形,在将二次外形的凸状的面朝向供电用一次线圈的状态下,供电用一次线圈和供电用二次线圈能够进行非接触供电。
搜索关键词: 接触 供电系统 以及 对象 供电 装置
【主权项】:
一种非接触供电系统,进行非接触供电,其中,所述非接触供电系统具备:供电用一次线圈,其能够进行非接触供电;以及供电用二次线圈,其能够与所述供电用一次线圈之间进行非接触供电,所述供电用二次线圈内含用于非接触供电的二次线圈线,并且形成至少在一部分具有凸状的曲面的二次外形,所述供电用二次线圈的重心点偏离所述凸状的曲面的曲率中心而位于所述凸状的曲面的侧部,所述供电用一次线圈内含用于非接触供电的一次线圈线,并且形成至少在一部分具有凹陷的一次外形,所述凹陷包括第一凹陷以及第二凹陷,所述第二凹陷位于该第一凹陷的中心且是比该第一凹陷小的凹陷,在所述二次外形的所述凸状的曲面嵌入于所述一次外形的所述第二凹陷且朝向所述供电用一次线圈的状态下,所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够进行非接触供电。
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