[实用新型]一种镀膜膜厚监测装置有效
| 申请号： | 201521041410.7 | 申请日： | 2015-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN205373621U | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 周东平 | 申请（专利权）人： | 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区娄*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本案为一种镀膜膜厚监测装置，包括：挡板，设于挡板上的通孔，第一晶振，第二晶振，其中，第一晶振与第二晶振的监测位置相同，通孔处为监测位置，第一晶振在监测位置被镀膜时，遮挡第二晶振；当第一晶振被镀膜到一定的厚度后，第一晶振被移离而第二晶振被移到监测位置，对膜厚进行连续监测。本案提供的镀膜时膜厚监测装置可精确地监控厚膜层的厚度，从而保证准确完成复杂膜系的镀膜，提高了产品的良率；同时可以实现复杂膜系厚度的准确监测，而且成本低，方法简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 监测 装置 | ||
【主权项】：
一种镀膜膜厚监测装置，其特征在于，包括：挡板（1），设于挡板上的通孔（2），第一晶振（3），第二晶振（4），其中，第一晶振与第二晶振的监测位置相同，通孔处为监测位置，第一晶振在监测位置被镀膜时，遮挡第二晶振；当第一晶振被镀膜到一定的厚度后，第一晶振被移离而第二晶振被移到监测位置，对膜厚进行连续监测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州晶鼎鑫光电科技有限公司，未经苏州晶鼎鑫光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201521041410.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：距离测定系统
- 下一篇：一种测量管体内径增大部分直径的装置
