[实用新型]水解釜均匀供料装置

摘要

本专利申请公开了一种水解釜均匀供料装置，包括机架、水解釜、供料管、检测单元和实施部，检测单元为液位传感器，液位传感器安装在水解釜上，且液位传感器的探头贯穿到水解釜内，探头和水解釜的连接处通过密封圈进行密封；供料管的横截面为方形，供料管的一侧壁上设有通槽，实施部包括用于关闭供料管的阻料块、中部铰接在机架上的铁质摆动臂和安装在机架上的电磁阀，阻料块滑动连接在通槽内，且阻料块与机架之间通过拉簧连接，摆动臂的一端对应于阻料块，摆动臂的另一端对应于电磁阀，所述电磁阀与液位传感器电连接。通过实施本方案，解决了现有技术中通过人工观察供料液面高低所存在的误差，导致有的水解釜中的反应物水解不充分的问题。

主权项

水解釜均匀供料装置，包括机架、水解釜和用于对水解釜供料的供料管，其特征在于，还包括控制装置，所述控制装置包括检测单元和实施部，所述检测单元为液位传感器，所述液位传感器安装在水解釜上，且液位传感器的探头贯穿到水解釜内，所述探头和水解釜的连接处通过密封圈进行密封；所述供料管的横截面为方形，供料管的一侧壁上设有通槽，所述实施部包括用于关闭供料管的阻料块、中部铰接在机架上的铁质摆动臂和安装在机架上的电磁阀，所述阻料块滑动连接在通槽内，且阻料块与机架之间通过拉簧连接，所述摆动臂的一端对应于阻料块，摆动臂的另一端对应于电磁阀，所述电磁阀与液位传感器电连接。