[实用新型]MOCVD石墨盘用石墨烤架有效
申请号: | 201520553730.4 | 申请日: | 2015-07-28 |
公开(公告)号: | CN204874730U | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 芮敏之 | 申请(专利权)人: | 美尔森先进石墨(昆山)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 昆山四方专利事务所 32212 | 代理人: | 盛建德;张小培 |
地址: | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种MOCVD石墨盘用石墨烤架,包括两个呈相对设置的竖向基板和支撑单元,该支撑单元由第一、二支撑件组成,第一支撑件具有多个横向条状的第一支撑条,第二支撑件具有多个横向条状的第二支撑条,该多个第一支撑条与多个第二支撑条相互对称的连接在该两竖向基板之间;呈相对称布置的第一支撑条与第二支撑条还相对形成有一对倾斜面,每对倾斜面上对称开设有多个卡槽,分别位于每对倾斜面上并相对称布置的两卡槽的槽底内表面上还分别形成与该MOCVD石墨盘的圆周外侧面形状相吻合的非平面台阶状结构;该石墨烤架不仅能使置于高温净化炉中的MOCVD石墨盘全面的接触到高温气体,从而高效的去除MOCVD石墨盘上的杂质;还能够牢靠的将MOCVD石墨盘固定住。 | ||
搜索关键词: | mocvd 石墨 烤架 | ||
【主权项】:
一种MOCVD石墨盘用石墨烤架,以该石墨烤架的使用状态为基准,该石墨烤架(1)包括呈相对设置的两个竖向基板(10)、以及一用以承接MOCVD石墨盘的支撑单元,该支撑单元由第一支撑件和第二支撑件组成,且所述第一支撑件和第二支撑件相对称的连接在两个所述竖向基板(10)之间;其特征在于:两个所述竖向基板(10)上分别贯穿开设有通气孔(100);所述第一支撑件具有多个从上往下依次间隔排列的横向条状的第一支撑条(11),所述第二支撑件具有多个从上往下依次间隔排列的横向条状的第二支撑条(12),该多个第一支撑条(11)与该多个第二支撑条(12)相互对称的连接在两个所述竖向基板(10)之间;呈相对称布置的所述第一支撑条(11)与所述第二支撑条(12)还相对形成有一对倾斜面,每对倾斜面上对称开设有多个间隔排列的卡槽(13),且分别位于每对倾斜面上并相对称布置的两卡槽的槽口还呈相对设置,分别位于每对倾斜面上并相对称布置的两卡槽的槽底内表面上还分别形成与该MOCVD石墨盘的圆周外侧面形状相吻合的非平面台阶状结构。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的