[实用新型]连续生产的粉体微波化学气相包覆设备有效
申请号: | 201520396752.4 | 申请日: | 2015-06-09 |
公开(公告)号: | CN204676151U | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | 徐宁;吴孟涛;赵明;宋英杰;伏萍萍 | 申请(专利权)人: | 天津巴莫科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48 |
代理公司: | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人: | 刘美甜 |
地址: | 300384 天津市滨海*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开一种连续生产的粉体微波化学气相包覆设备,包括依次连接的进料阀、反应腔和出料阀;反应腔为两端带有弯管的直管;直管上安装有旋转驱动装置和多个磁控管;反应腔两端分别安装有进气口I和反应腔抽气口;进料阀包括壳体、壳体内部的进料阀转子,及与进料阀转子设置于同一平面上的进料口、进料阀进气口、进料阀抽气口和进料调速阀;进料阀转子能在壳体内部自由旋转,且与壳体内壁相切形成密封;出料阀与进料阀结构类似,也是通过转子旋转进行物料传递并保持反应腔的密封性;进料阀、出料阀转子均为一端开口的结构。该设备能实现快速连续生产,且制得产品具有均匀的包覆层,性质均一稳定。 | ||
搜索关键词: | 连续生产 微波 化学 气相包覆 设备 | ||
【主权项】:
一种连续生产的粉体微波化学气相包覆设备,包括进料阀(18)、反应腔(6)和出料阀(12);其特征在于:所述反应腔(6)为两端带有弯管的直管,其中弯管I朝上与所述进料阀(18)相连,弯管II朝下与所述出料阀(12)相连;所述直管上安装有旋转驱动装置(8),且其侧壁上安装有多个磁控管(7);所述弯管I与进料阀(18)接口处设有进气口I(4),所述直管靠近弯管II的上侧设有反应腔抽气口(16);所述进料阀(18)包括壳体、设置于所述壳体内部的进料阀转子(2),及与所述进料阀转子(2)设置于同一平面上的进料口(1)、进料阀进气口(13)、进料阀抽气口(14)和进料调速阀(17);所述进料阀进气口(13)和进料阀抽气口(14)相邻设置;所述进料阀转子(2)能在所述壳体内部自由旋转,且与壳体内壁相切形成密封;所述出料阀(12)包括外壳、设置于所述外壳(12)内部的出料阀转子(10),及与所述出料阀转子(10)设置于同一平面上的进气口(9)、出料阀进气口(19)、出料阀抽气口(20)和出料口(11);所述出料阀进气口(19)和出料阀抽气口(20)相邻设置;所述出料口(11)设置于外壳的正下方;所述出料阀转子(10)能在所述外壳内部自由旋转,且与外壳内壁相切形成密封,所述进料阀转子(2)和出料阀转子(10)均为一端开口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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