[实用新型]一种光罩护膜清洁装置有效
申请号: | 201520145480.0 | 申请日: | 2015-03-13 |
公开(公告)号: | CN204462637U | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 邢滨;郝静安;张强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种光罩护膜清洁装置,该装置至少包括:底座和该底座两侧的滑轨;与每个滑轨匹配的滑块;连接于滑块间的除尘模块及扫描探测模块;两个滑轨的同一端设有凹槽,凹槽中嵌有挡板;除尘模块上设有进气口及若干出气口;进气口连接有进气管路;扫描探测模块包括:线传感器、散射光接收透镜以及激光束;底座上设有集气罩;集气罩与底座接触区域设有密封圈;集气罩上表面设有排气孔。本实用新型在光罩护膜上方使用一套密封进气和出气的装置,移动于光罩护膜上表面的除尘模块使得光罩护膜与除尘模块在清洁过程中始终保持一定距离而不会损坏光罩护膜;同时采用扫描探测模块提高了光罩护膜表面清洁度;提高了产品良率以及保证了产品的交期。 | ||
搜索关键词: | 一种 光罩护膜 清洁 装置 | ||
【主权项】:
一种光罩护膜清洁装置,其特征在于,所述装置至少包括:用于承载光罩护膜的底座;位于该底座及所述光罩护膜两侧的滑轨;与所述每个滑轨匹配的滑块;连接于所述滑块之间且位于所述光罩护膜正上方的除尘模块及扫描探测模块;所述两个滑轨的同一端分别设有凹槽,所述凹槽中嵌有挡板;所述除尘模块上设有进气口以及若干出气口;所述进气口连接有进气管路;所述扫描探测模块至少包括:线传感器、散射光接收透镜以及激光束;所述底座上设有将所述光罩护膜、滑轨、滑块、除尘模块及扫描探测模块容纳其中的集气罩;所述集气罩与所述底座接触区域设有密封圈;所述集气罩上表面设有排气孔。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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