[实用新型]具有平衡结构的四合扣公扣有效
| 申请号： | 201520006548.7 | 申请日： | 2015-01-01 |
| 公开（公告）号： | CN204351208U | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 杨大明 | 申请（专利权）人： | 杨大明 |
| 主分类号： | A44B17/00 | 分类号： | A44B17/00 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 谭启斌 |
| 地址： | 523812 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 具有平衡结构的四合扣公扣，包括公扣面扣和公扣，公扣面扣包括一扣面，扣面的底部具有中柱，公扣的顶面具有与扣面的底部结合的底座，底座上设有供中柱铆接的通孔，公扣的底面具有用于配合公扣的扣合部；其中，底座上还具有围绕通孔成圆周分布的一个或多个凸起结构，该凸起结构用于支撑扣面的底部。公扣的底座上的凸起结构用于支撑扣面的底部，在反向牵拉两侧面料使公扣的凸起从母扣的孔中脱离时增加了公扣面扣与公扣之间的受力点或受力面，可以将原本仅作用于中柱铆接点和公扣一侧边沿的力较为平衡的分散到较大的范围，使公扣面扣与公扣的铆接松脱，同时增强公扣面扣、公扣、面料的结合强度，避免撕裂面料。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 平衡 结构 四合扣公扣 | ||
【主权项】：
具有平衡结构的四合扣公扣，包括公扣面扣和公扣，公扣面扣包括一扣面，扣面的顶部具有中柱，公扣的底面具有与扣面的顶部结合的底座，底座上设有供中柱铆接的通孔，公扣的顶面具有用于配合母扣的扣合部，其特征在于：底座上还具有围绕通孔成圆周分布的一个或多个凸起结构，该凸起结构用于支撑扣面的顶部。
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