[发明专利]记录方法和记录设备有效
申请号: | 201510697788.0 | 申请日: | 2015-10-23 |
公开(公告)号: | CN105538905B | 公开(公告)日: | 2017-11-07 |
发明(设计)人: | 后藤亮平 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41J2/00 | 分类号: | B41J2/00;B41M5/00 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及记录方法和记录设备。根据本发明一方面的记录方法依次包括将在与墨接触时增粘的反应液施涂至中间转印体;通过将墨施涂至承载了所述反应液的中间转印体来形成中间图像;将含有水溶性树脂的辅助液施涂至所述中间图像来形成中间图像层;和将所述中间图像层转印至记录介质。辅助液含有水溶性树脂。选自由所述反应液、所述墨和所述辅助液组成的组的至少一种组分包含特定化合物。 | ||
搜索关键词: | 记录 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种记录方法,其特征在于依次包括:将在与墨接触时增粘的反应液施涂至中间转印体;通过将墨施涂至承载了所述反应液的中间转印体来形成中间图像;将含有水溶性树脂的辅助液施涂至所述中间图像来形成中间图像层;和将所述中间图像层转印至记录介质;其中选自由所述反应液、所述墨和所述辅助液组成的组的至少一种组分包含由式(1)表示的化合物:其中w和x各自独立地表示二价有机基团,a和b各自独立地表示氢原子或单价有机基团,n和l各自独立地是1以上,并且n+l是2以上且300以下,m是1以上且70以下,p和q各自独立地是0或1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510697788.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种微量供墨电子调节装置
- 下一篇:半自动气凝胶绝热材覆防火布切片机