[发明专利]一种单面触摸屏消影导电玻璃的加工方法

摘要

一种单面触摸屏消影导电玻璃的加工方法，第一步，对玻璃基板进行处理，第二步，对玻璃基板溅射干涉层一和透明钝化层；第三步，在玻璃基板溅射的透明钝化层上，进行干涉层二溅射；具有良好的电磁屏蔽、静电防护和消影作用，并且能够完全代替现有的传统导电玻璃，为下游客户提供低耗能、高均匀性、低成本的制作电容屏用导电玻璃。

主权项

1.一种单面触摸屏消影导电玻璃的加工方法，所述单面触摸屏消影导电玻璃是由玻璃基板(1)、锡面(2)、空气面(3)、干涉层一(4)、透明钝化层(5)、干涉层二(6)构成；其特征在于：玻璃基板(1)的两个表面分别为锡面(2)和空气面(3)，在玻璃基板(1)的锡面(2)上设置干涉层一(4)，干涉层一(4)与干涉层二(6)之间设置透明钝化层(5)；所述透明钝化层(5)采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；所述干涉层一(4)与干涉层二(6)均采用五氧化二铌；所述一种单面触摸屏消影导电玻璃的加工方法，具体步骤如下：第一步，对玻璃基板(1)进行处理，A、对玻璃基板(1)进行切割，先沿X方向切割，再沿Y方向切割，然后再掰片处理；B、对切割后的玻璃基板(1)进行磨边和倒角，先沿X方向磨边，再倒角，旋转90°后，再沿Y方向磨边及倒角；C、刷洗吹干；D、对磨边和倒角后的玻璃基板(1)进行抛光；E、再刷洗吹干；第二步，对玻璃基板(1)溅射干涉层一(4)和透明钝化层(5)；A、对抛光刷洗吹干后的玻璃基板(1)进行加热；采用的加热温度为150‑280摄氏度；B、利用磁控溅射真空镀膜设备对加热后的玻璃基板(1)的锡面(2)上溅射干涉层一(4)，干涉层一(4)为五氧化二铌，干涉层一(4)上方溅射透明钝化层(5)，透明钝化层(5)为透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；第三步，在玻璃基板(1)溅射的透明钝化层(5)上，进行干涉层二(6)溅射；A、对溅射干涉层一(4)和透明钝化层(5)后的玻璃基板(1)进行加热；加热温度采用280‑380摄氏度；B、利用磁控溅射真空镀膜设备，对加热后的玻璃基板(1)，在玻璃基板(1)的干涉层一(4)和透明钝化层(5)上，进行干涉层二(6)溅射，干涉层二(6)为五氧化二铌；C、对溅射干涉层二(6)后的玻璃基板(1)，经缓冲室做退火处理：先降温至200摄氏度，再加温至300摄氏度稳定，完成对玻璃基板(1)的镀膜。