[发明专利]用于净化流体的装置和通过其净化流体的方法有效

专利信息
申请号: 201510587923.6 申请日: 2015-09-15
公开(公告)号: CN105417635B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 图利奥·塞尔维达 申请(专利权)人: 伊德罗帕德尔园林清洗有限公司
主分类号: C02F1/46 分类号: C02F1/46
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王萍;陈炜
地址: 意大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 用于净化流体的装置,包括其内部具有流过第一操作流体(F1)的操作室(4,5)的至少一个离子吸附单元(2)以及流过第二操作流体(F2,F2')并且由过滤非离子选择性过滤膜(100)与操作室分离的排出室(13,13')。三维多孔电导体(18)被容置在排出室中并且被第二操作流体穿过。两个电极(A,B)具有前述的操作室和其间的排出室,并被供以相反极性以产生操作室中的操作电场和排出室中的有限电场,后者由于三维多孔电导体的屏蔽效果而具有比操作电场低的值。操作室中包含的带电粒子易于在电极(A,B)产生的操作电场的作用下穿过非离子选择性过滤膜(100),并且在它们经受有限电场的作用的排出室(13,13')中被第二操作流体(F2,F2')排出。
搜索关键词: 用于 净化 流体 装置 通过 方法
【主权项】:
一种用于净化流体的装置,其特征在于包括:‑至少一个离子吸附单元(2),所述至少一个离子吸附单元(2)被包含带电粒子的至少一个第一操作流体(F1)穿过,所述至少一个离子吸附单元(2)设置有在所述至少一个离子吸附单元(2)内部限定的容置结构(3):‑至少一个操作室(4,5),所述至少一个操作室(4,5)设置有入口开口(6,7)和出口开口(8,9),所述至少一个第一操作流体(F1)易于流过所述入口开口(6,7)和所述出口开口(8,9);‑至少一个排出室(13,13'),所述至少一个排出室(13,13')用于排出所述带电粒子,至少一个第二操作流体(F2,F2')流过所述至少一个排出室(13,13');‑所述至少一个操作室(4,5)和所述至少一个排出室(13,13')通过至少一个非离子选择性过滤膜(100)彼此分离;‑三维多孔电导体(18),所述三维多孔电导体(18)容置在所述至少一个排出室(13,13')中,所述三维多孔电导体(18)具有厚度以及基本上片状延伸,所述三维多孔电导体(18)适于被所述至少一个第二操作流体(F2,F2')沿着与所述片状延伸平行的所述厚度在所述三维多孔电导体(18)体积内部穿过;‑电力供给源(12);‑第一电极和第二电极(A,B),所述第一电极和所述第二电极(A,B)通过置于其间的所述至少一个操作室(4,5)和所述至少一个排出室(13,13')而彼此分离,所述第一电极和所述第二电极(A,B)能够被所述电力供给源(12)以相反极性供以电力,以便由于所述三维多孔电导体(18)的屏蔽效果而在所述至少一个操作室(4,5)中生成操作电场以及在所述至少一个排出室(13,13')中生成具有低于所述操作电场的值的有限电场;‑包含在所述操作室(4,5)中的带电粒子易于在所述第一电极和所述第二电极(A,B)生成的操作电场的作用下穿过所述非离子选择性过滤膜(100),以及包含在所述操作室(4,5)中的带电粒子易于被所述至少一个排出室(13,13')中的所述至少一个第二操作流体(F2,F2')排出,在所述至少一个排出室(13,13')中包含在所述操作室(4,5)中的带电粒子受到所述有限电场的作用;‑所述电力供给源(12)易于以0.2Hz与10Hz之间的区间中包括的极性反转频率来周期性地反转所述第一电极和所述第二电极(A,B)的极性,以强制包含在所述至少一个操作室(4,5)中的阳离子粒子和阴离子粒子通过所述至少一个非离子选择性过滤膜(100)进入同一所述至少一个排出室(13,13')。
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