[发明专利]流体喷射装置在审

专利信息
申请号: 201510166266.8 申请日: 2015-04-09
公开(公告)号: CN104970859A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 旭常盛;五味正挥 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: A61B17/3203 分类号: A61B17/3203
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 田喜庆;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了流体喷射装置,其虽然进行着缩短喷射出流体之前的时间的控制,但即便在压力未达到目标压力的情况下也能喷射流体。该流体喷射装置具备:流体喷射部,使流体喷射;喷射控制部,控制来自流体喷射部的流体的喷射;流体容器,容纳被供给流体喷射部的流体;以及压力调整部,调整流体容器内的压力,以使比与流体容器内的压力相关的第一阈值更接近目标压力,喷射控制部具有第一喷射模式和第二喷射模式作为喷射模式,在第一喷射模式下,如果流体容器内的压力比第二阈值更接近目标压力,该第二阈值比第一阈值距离目标压力更远,则接受流体的喷射请求,在第二喷射模式下,即使流体容器内的压力没有比第二阈值更接近目标压力,也接受喷射请求。
搜索关键词: 流体 喷射 装置
【主权项】:
一种流体喷射装置,其特征在于,具备:流体喷射部,使流体喷射;喷射控制部,控制来自所述流体喷射部的流体的喷射;流体容器,容纳被供给所述流体喷射部的流体;以及压力调整部,调整所述流体容器内的压力,以使比与所述流体容器内的压力相关的第一阈值更接近目标压力,所述喷射控制部具有第一喷射模式和第二喷射模式作为喷射模式,在所述第一喷射模式下,如果所述流体容器内的压力比第二阈值更接近所述目标压力,该第二阈值比所述第一阈值距离所述目标压力更远,则接受所述流体的喷射请求,在所述第二喷射模式下,即使所述流体容器内的压力没有比所述第二阈值更接近所述目标压力,也接受所述喷射请求。
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