[发明专利]一种紧凑深度平面表示的方法、装置及介质有效
| 申请号： | 201510083780.5 | 申请日： | 2015-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN104933750B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | J·N·哈塞尔格伦;M·安德松 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | G06T15/00 | 分类号： | G06T15/00;G06T15/40 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 张晰;王英 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了用于后排序体系结构的紧凑深度平面表示。根据一些实施例，对于瓦片内像素的子集可以使用完全每样本覆盖掩码，从而使得能够处理属于多个深度范围的像素。这使得深度更紧密适配于瓦片的真正深度范围，并且当使用MSAA时提高分层深度剔除效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紧凑 深度 平面 表示 方法 装置 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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