[发明专利]一种干膜抗蚀剂层压体有效
| 申请号： | 201510050337.8 | 申请日： | 2015-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN104536266B | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 李志强;李伟杰;严晓慧;周光大;林建华 | 申请（专利权）人： | 杭州福斯特应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 311300 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种干膜抗蚀剂层压体，包括支撑层、涂覆于撑层上方的第一抗蚀剂层以及涂覆于第一抗蚀剂层上方的第二抗蚀剂层；所述第一抗蚀剂层的酸值为80~400 mgKOH/g，第二抗蚀剂层的酸值比第一抗蚀剂层酸值高2~41.2mgKOH/g。本发明采用不同酸值的双层结构的抗蚀剂，在抗蚀剂曝光显影后，形成良好的图形侧边形貌，未曝光的图形胶层能更好地除去。使其在印刷电路板、引线框架等的制造、半导体封装等的制造、金属的精密加工等领域中，作为刻蚀用或镀敷用的干膜抗蚀剂层压体材料，在图形曝光显影后，具有非常好的图形线条侧边形貌。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干膜抗蚀剂 层压 | ||
【主权项】：
1.一种干膜抗蚀剂层压体，其特征在于，包括支撑层、涂覆于支撑层上方的第一抗蚀剂层以及涂覆于第一抗蚀剂层上方的第二抗蚀剂层；所述第一抗蚀剂层的酸值为105.2~128.6 mgKOH/g，第二抗蚀剂层的酸值为115.2~154.4mgKOH/g，并且，第二抗蚀剂层的酸值比第一抗蚀剂层酸值高2~41.2mgKOH/g；所述第一抗蚀剂层厚度为5~50微米，第二抗蚀剂层厚度为1‑10微米；所述第一抗蚀剂层和第二抗蚀剂层由质量分数为45~70%的含羧基的碱可溶性聚合物、质量分数为15~45%的含有至少一个可聚合的不饱和键单体、质量分数为0.5~10%的光引发剂、质量分数为0.01~5%的添加剂组成。
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