[发明专利]一种微向下提拉晶体生长炉有效
申请号: | 201510029789.8 | 申请日: | 2015-01-21 |
公开(公告)号: | CN104611764B | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 方海生;蒋志敏;刘胜;王梦莹;张舟 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心42201 | 代理人: | 梁鹏 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种微向下提拉晶体生长炉,包括自上而下设置的上部绝热层和底部绝热层(13),底部绝热层(13)内还设置有观察孔(4),观察孔(4)呈管状,其中心轴线与底部绝热层(13)顶表面的法线的夹角为45°~60°;内层绝热层、中间绝热层和底部绝热层(13)均由质量比为19的氧化锆和氧化铝压制煅烧而成。本发明设置的观察窗口能够及时观察晶体生长界面的晶体生长状况;并且,该观察窗口对晶体生长炉的温度场影响小,能够进一步提高晶体生长的成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 向下 晶体生长 | ||
【主权项】:
一种微向下提拉晶体生长炉,其特征在于,包括自上而下设置的上部绝热层和底部绝热层(13),其中:所述上部绝热层由内到外依次包括内层绝热层(9)和中间绝热层;所述内层绝热层呈圆筒形,其内部设置有坩埚;所述中间绝热层包括中间绝热壁(8)和中间绝热盖(7),所述中间绝热壁为两端开口的圆筒形,所述中间绝热盖位于该圆筒形的顶部;所述内层绝热层(9)和中间绝热壁均设置在所述底部绝热层(13)的顶表面上方,所述内层绝热层(9)和中间绝热壁的中心轴线均垂直于所述底部绝热层(13)的顶表面;所述底部绝热层(13)的中心设置有籽晶杆(14),所述籽晶杆(14)的轴向方向垂直于所述底部绝热层(13)的顶表面;所述底部绝热层(13)内还设置有观察孔(4),所述观察孔(4)呈管状,其中心轴线与所述底部绝热层(13)顶表面的法线的夹角为45°~60°,该观察孔(4)的孔径为5mm以上;此外,在所述底部绝热层(13)与所述上部绝热层之间,还设置有底部绝热支撑(11),所述底部绝热支撑(11)采用以下材料中的至少一种:钨、钼;所述微向下提拉晶体生长炉还设置有外层绝热层,该外层绝热层包括外层绝热壁(5)和外层绝热盖(1);所述外层绝热壁为圆筒形,包围所述中间绝热壁(8),并且其中心轴线垂直于所述底部绝热层(13)顶表面所在平面;所述外层绝热盖位于所述外层绝热壁的上方,并且呈平板状,其所在平面的法线方向垂直于所述底部绝热层(13)顶表面;所述外层绝热壁还包围所述底部绝热层(13),并且在所述外层绝热壁与底部绝热层(13)之间还设置有石英圆管(2);在所述底部绝热层(13)内还设置有多个水冷管道(12),所述多个水冷管道(12)相互呈同心圆设置;该微向下提拉晶体生长炉用于生长晶体生长温度超过2000℃的材料。
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