[发明专利]一种无遮拦的两反射镜离轴三反光学系统设计方法无效
申请号: | 201510026712.5 | 申请日: | 2015-01-20 |
公开(公告)号: | CN104635336A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 付强;高铎瑞;姜会林;景文博;祝勇;赵义武 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 长春市吉利专利事务所 22206 | 代理人: | 李晓莉 |
地址: | 130022 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种无遮拦的两反射镜离轴三反光学系统设计方法,属于光学设计领域。离轴三反光学系统由主镜、次镜和三镜构成,将传统的离轴三反射光学系统中的主镜和三镜改进为一块非球面反射镜,发明了一种无遮拦的两反射镜离轴三反光学系统。相比现有技术,本发明设计方法简单易行,设计的光学系统加工和装调难度低。 | ||
搜索关键词: | 一种 遮拦 反射 镜离轴三反 光学系统 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种无遮拦的两反射镜离轴三反光学系统设计方法,其特征在于:包括下述步骤,步骤一、同轴三反光学系统的初始结构参数计算,同轴三反光学系统由主镜M1、次镜M2、三镜M3组成,光线入射后,依次经主镜M1、次镜M2、三镜M3到达像面;所述的主镜M1、次镜M2、三镜M3顶点的曲率半径分别为R1、R2、R3,主镜M1、次镜M2、三镜M3的非球面系数分别为
主镜M1、次镜M2、三镜M3与像面的间距分别为
两反射镜三反光学系统的特点是主镜M1与三镜M3完全相同并且重合,即要求R1=R3,
d1=‑d2;三反光学系统的成像性质由结构参数α1、α2、β1、β2决定;所述的α1为次镜对主镜的遮拦比:α1=l2/f1′≈h2/h1;所述的α2为三镜对次镜的遮拦比:α2=l3/l2′≈h3/h2;所述的β1、β2分别为次镜和三镜的放大率;按总焦距f′=1归一化处理,可得:d1=α2(1‑α1)2+α1(1‑α2)2;![]()
将α1、α2作为初始已知量,根据平场条件可得:![]()
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利用高斯光学理论,可得到同轴三反光学系统结构参数的公式:![]()
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d1=[α2(1‑α1)2+α1(1‑α2)2]f′;![]()
l3′=α1α2f′;式中,所述的f′为系统的总焦距;由此确定同轴三反光学系统初始结构参数;限制R1=R3,得到:![]()
根据以上公式,给出一个α1便可求出α2,将α1和α2代入上述同轴三反光学系统结构参数公式中,便可求出两反射镜同轴三反光学系统的全部结构参数;令两反射镜同轴三反光学系统的三级球差、慧差为零,可以求出两个反射镜的非球面系数
由初级球差系数SI=0,得:![]()
由初级慧差系数SII=0,得:![]()
将α1、α2、β1、β2带入上述公式中即可求出两个反射镜面的非球面系数![]()
至此,系统的结构参数R1(R3)、R2、d1(‑d2)、
全部确定;步骤二、将步骤一中计算获得的初始结构参数输入到Zemax光学设计软件中;将光阑置于第一面上,取光学孔径为离轴量,使系统无中心遮拦,进行光学系统设计优化,即可得到满足要求的无遮拦的两反射镜离轴三反光学系统。
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