[发明专利]用于增加的性能的经激光蚀刻的闪烁晶体有效
| 申请号： | 201480051712.4 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN105556341B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | S·E·库克;J·L·莫利纽克斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/20 | 分类号： | G01T1/20 |
| 代理公司： | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 李光颖;王英<国际申请>=PCT/IB2 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于成像系统的探测器阵列，包括：闪烁体晶体(12)的阵列，其中，每个晶体包括多个侧面，并且在至少一个晶体侧面上被激光蚀刻以将光进行散射；以及光探测器(18)的阵列，其被光学耦合到闪烁体晶体的阵列。所述晶体(12)的侧面被激光蚀刻有由用户使用计算机辅助设计软件定义的不同图案。探测器阵列(6)是还包括以下的核扫描器(4)的部分：重建处理器(8)，其用于将来自所述多个光探测器(18)的输出信号重建成图像；以及显示设备(10)，其显示所重建的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 增加 性能 激光 蚀刻 闪烁 晶体 | ||
【主权项】：
1.一种用于成像系统(2)的探测器阵列(6)，包括：/n闪烁体晶体(12)的阵列，其中，每个晶体(12)包括多个侧表面，并且在至少一个闪烁体晶体侧表面的至少部分上被激光蚀刻以将光进行漫反射；以及/n光探测器(18)的阵列，其被光学耦合到所述闪烁体晶体的阵列。/n
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