[发明专利]光发电装置有效

专利信息
申请号: 201480017109.4 申请日: 2014-03-14
公开(公告)号: CN105103307B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 小林英治 申请(专利权)人: 长州产业株式会社
主分类号: H01L31/0747 分类号: H01L31/0747;H01L31/20
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 代理人: 周善来,李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的是提供填充因子高的光发电装置。光发电装置(10)包括多层状的光伏元件(11);以及层叠在光伏元件(11)的一个面上的第一集电构件(12)和层叠在另一个面上的第二集电构件(13),光伏元件(11)包括n型晶体半导体基板(14);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第一集电构件(12)侧的第一本征非晶系硅薄膜(15)、p型非晶系硅薄膜(16)和第一透明导电膜(17);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第二集电构件(13)侧的n型非晶系硅薄膜(19)和第二透明导电膜(20),p型非晶系硅薄膜(16)的膜厚小于6nm,第一透明导电膜(17)表面中的第一集电构件(12)的非层叠区域(25)的最大宽度小于2mm。
搜索关键词: 发电 装置
【主权项】:
一种光发电装置,其具备:多层状的光伏元件;以及层叠在所述光伏元件的一个面上的第一集电构件和层叠在另一个面上的第二集电构件,所述光伏元件具有:n型晶体半导体基板;依次层叠在所述n型晶体半导体基板的所述第一集电构件侧的第一本征非晶系硅薄膜、p型非晶系硅薄膜和第一透明导电膜;以及依次层叠在所述n型晶体半导体基板的所述第二集电构件侧的n型非晶系硅薄膜和第二透明导电膜,所述第一集电构件具有:多个母线电极I,以彼此平行的方式形成;以及多个指状电极I,与所述母线电极I连接,以彼此平行的方式形成,所述第二集电构件具有:多个母线电极II,以彼此平行的方式形成;以及多个指状电极II,与所述母线电极II连接,以彼此平行的方式形成,所述光发电装置的特征在于,所述p型非晶系硅薄膜的膜厚为1nm以上且小于5nm,所述第一透明导电膜表面中的所述第一集电构件的非层叠区域的最大宽度小于2mm,所述指状电极I的间隔为0.1mm以上且小于2mm,所述n型非晶系硅薄膜的膜厚为3nm以上且为10nm以下,所述指状电极II的间隔大于2mm且为4mm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长州产业株式会社,未经长州产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480017109.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 光电转换元件-201680052868.3
  • 国吉督章;东贤一;神川刚;原田真臣;酒井敏彦;辻埜和也;邹柳民 - 夏普株式会社
  • 2016-08-30 - 2019-09-03 - H01L31/0747
  • 本发明提供抑制硼的扩散,并能使转换效率提高的光电转换元件及光电转换模块。光电转换元件(10)包括:半导体基板(1);在半导体基板(1)上形成的本征非晶态半导体层(3);在本征非晶态半导体层(3)上形成的包含磷作为掺杂物的n型非晶态半导体层(4);以及在面内方向上与n型非晶态半导体层(4)相邻地形成的包含硼作为掺杂物的p型非晶态半导体层(5)。n型非晶态半导体层(4)在与p型非晶态半导体层(5)相邻的面具有膜厚减少区域TD(n),p型非晶态半导体层(5)在与n型非晶态半导体层(4)相邻的面具有膜厚减少区域TD(p)。p型非晶态半导体层(5)的膜厚减少区域TD(p)的倾斜角度比n型非晶态半导体层(4)的膜厚减少区域TD(n)的倾斜角度更陡峭。
  • 太阳能电池及其制造方法-201680004706.2
  • 河崎勇人;吉河训太;中野邦裕;小西克典;山本宪治 - 株式会社钟化
  • 2016-03-07 - 2019-06-28 - H01L31/0747
  • 太阳能电池在晶体硅基板的第一主面上具有n型半导体层(6)及p型半导体层(7)。n型半导体层以横跨设置有p型半导体层的p型半导体层形成区域上的一部分和未设置p型半导体层的p型半导体层非形成区域的方式设置。在p型半导体层形成区域上的设置有n型半导体层的区域中,在p型半导体层和n型半导体层之间设置有保护层(8)。保护层具备与p型半导体层相接设置的基底保护层(8b)和设置于基底保护层上的绝缘层(8a)。基底保护层包含本征硅基层及n型硅基层的任一种。
  • 太阳能单电池和太阳能单电池的制造方法-201780058948.4
  • 藤田和范;益子庆一郎;矢野步 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2017-09-13 - 2019-06-04 - H01L31/0747
  • 作为实施方式的一例的太阳能单电池(10)的制造方法包括:在晶体硅晶片(11z)的一个主面上形成钝化层(12z)的工序;在钝化层(12z)上形成实质上本征的i型硅层(13z)的工序;使n型掺杂剂在钝化层(12z)、i型硅层(13z)和晶体硅晶片(11z)热扩散,在该晶片的各主面及其附近形成n+层(20),并使i型硅层(13z)成为n型晶体硅层(13)的工序;和在形成了n+层(20)的晶体硅晶片(11z)(n型晶体硅晶片(11))的另一个主面侧形成p型非晶硅层(17)的工序。
  • 晶体硅太阳能电池的制造方法、及太阳能电池模块的制造方法-201580053243.4
  • 宇都俊彦;足立大辅 - 株式会社钟化
  • 2015-09-30 - 2019-04-26 - H01L31/0747
  • 本发明的制造方法依次具有如下工序:在单晶硅基板(1)的表面上形成纹理的工序;利用臭氧清洗单晶硅基板的表面的工序;在单晶硅基板的纹理上制膜本征硅层(2)的工序;在本征硅层上制膜导电型硅层(3)的工序。制膜本征硅层前的单晶硅基板(1)的纹理大小低于5μm。优选纹理凹部的曲率半径低于5nm。制膜本征硅层的至少一部分之后、制膜导电型硅层之前,在以氢气为主成分的气体氛围中,对本征硅层进行等离子体处理。
  • 太阳能电池以及太阳能电池模块-201780051332.4
  • 吉河训太;河﨑勇人;吉田航 - 株式会社钟化
  • 2017-06-09 - 2019-04-16 - H01L31/0747
  • 太阳能电池(100)在具有第一主面以及第二主面的矩形的半导体基板的第二主面具有第一导电型区域以及第二导电型区域。在半导体基板的第一方向中央区域(YC)中,沿着第二方向交替地配置有沿第一方向延伸的带状的第一导电型区域(111)和沿第一方向延伸的带状的第二导电型区域(112)。在第一方向端部区域(YE1、YE2)中,沿着第一方向交替地配置有沿第二方向延伸的带状的第一导电型区域(116a、118a)和沿第二方向延伸的带状的第二导电型区域(117a),沿着第一方向配置有至少2个第一导电型区域。
  • 晶体硅系太阳能电池、晶体硅系太阳能电池模块及它们的制造方法-201580022564.8
  • 宇都俊彦;足立大辅;宇津恒 - 株式会社钟化
  • 2015-04-09 - 2019-02-05 - H01L31/0747
  • 本发明提供一种不期望的金属的析出及金属向硅基板内的扩散等得到抑制、且在背面侧的整个面上形成了镀金属电极层的晶体硅系太阳能电池。本发明的晶体硅系太阳能电池在n型晶体硅基板(1)的第一主面(51)上具备第一本征硅系薄膜(2)、p型硅系薄膜(3)、第一透明电极层(4)及图案集电极(11),在第二主面(52)上具备第二本征硅系薄膜(7)、n型硅系薄膜(8)、第二透明电极层(9)及镀金属电极(21)。在第一主面的周边具有除去了第一透明电极层(4)和第二透明电极层(9)间的短路的绝缘区域。镀金属电极(21)形成于第二透明电极层(9)上的整个区域。
  • 太阳能电池及其制造方法、以及太阳能电池面板-201780031450.9
  • 河崎勇人;吉河训太;中野邦裕;小西克典 - 株式会社钟化
  • 2017-02-08 - 2019-01-04 - H01L31/0747
  • 本发明所涉及的太阳能电池具备:导电型晶体硅基板(11);和第一导电型硅系层(12)及第二导电型硅系层(13),它们配置在导电型晶体硅基板(11)的一个主面上,第一导电型硅系层(12)与第二导电型硅系层(13)电绝缘,第二导电型硅系层(13)包括第一部分(13a)和第二部分(13b),第一部分(13a)隔着第一本征硅系层(14)及第一导电型硅系层(12)而与导电型晶体硅基板(11)对置,第二部分(13b)隔着第二本征硅系层(15)而与导电型晶体硅基板(11)对置,第一本征硅系层(14)的厚度比第二本征硅系层(15)的厚度厚。
  • HBC型晶体太阳能电池的制造方法和制造装置-201680055920.0
  • 田中美和;酒田现示;三浦真;山崎嘉文;横尾秀和;西桥勉;山口昇 - 株式会社爱发科
  • 2016-10-05 - 2018-06-08 - H01L31/0747
  • 本发明的HBC型晶体太阳能电池的制造方法,使用具有非受光面、且由第一导电型的晶体硅构成的基板,以覆盖所述基板的所述非受光面的方式,形成i型非晶Si层,对于所述非晶Si层,通过使用了掩模的杂质导入法,将与所述第一导电型相同的导电型的第一部位及与所述第一导电型不同的导电型的第二部位形成在彼此分离的位置,对导入杂质后的所述非晶Si层实施退火处理。形成所述第一部位及所述第二部位的工序包括:第一步,形成所述第一部位的指状部;第二步,形成所述第一部位的汇流条部;第三步,形成所述第二部位的指状部;及第四步,形成所述第二部位的汇流条部。
  • 光电转换装置-201580012504.8
  • 原田真臣;酒井敏彦;菅沼利人;辻埜和也;国吉督章;神川刚 - 夏普株式会社
  • 2015-04-03 - 2018-05-04 - H01L31/0747
  • 提供一种光电转换装置,能够抑制p层或者n层的掺杂物向相邻的层扩散。光电转换装置(1)具备硅基板(10)、形成于硅基板(10)的一个面并且实质上是本征的本征非晶质层(11)以及形成于本征非晶质层(11)上的第1导电类型非晶质层(12)。第1导电类型非晶质层(12)包括第1浓度层(121)和层叠于第1浓度层(121)的第2浓度层(122)。第2浓度层(122)的掺杂物浓度是8×1017cm‑3以上且低于第1浓度层的掺杂物浓度。
  • 太阳能电池-201480061045.8
  • 广瀬浩一;松原义宏;川本训裕 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2014-10-17 - 2017-10-03 - H01L31/0747
  • 太阳能电池(10)包括作为一个导电型具有n型的导电型的结晶衬底(11);n型半导体层(12),其与结晶衬底(11)的一个主面的受光面和结晶衬底(11)的侧面相连地层叠;p型半导体层(13),其与作为结晶衬底(11)的另一主面的背面和结晶衬底(11)的侧面相连地层叠,在结晶衬底(11)的侧面与n型半导体层(12)至少一部分重叠;受光面侧的透明导电膜(14),其在结晶衬底(11)的受光面上层叠n型半导体层,具有比结晶衬底(11)的平面形状小的面积;和与p型半导体层(13)层叠的背面侧的透明导电膜(15)。
  • 光伏元件及其制造方法-201480016801.5
  • 小林英治 - 长州产业株式会社
  • 2014-03-18 - 2017-06-06 - H01L31/0747
  • 本发明提供一种具有足够的填充因数且能控制制造成本的光伏元件及其制造方法。所述光伏元件(10)包括n型结晶半导体基板(11)、在n型结晶半导体基板(11)的一侧层叠的p型非晶质系硅薄膜(13)、以及在n型结晶半导体基板(11)的另一侧层叠的n型非晶质系硅薄膜(15),所述光伏元件(10)具有存在于n型结晶半导体基板(11)和p型非晶质系硅薄膜(13)之间的本征非晶质系硅薄膜(12),n型结晶半导体基板(11)和n型非晶质系硅薄膜(15)直接接合,n型非晶质系硅薄膜(15)侧被用作光入射面。
  • 硅异质结太阳能电池-201480033930.5
  • J·夸尼斯 - 原子能和能源替代品委员会
  • 2014-06-16 - 2017-06-06 - H01L31/0747
  • 本发明涉及一种硅异质结太阳能电池,其相继地包括掺杂的晶体硅衬底(1);钝化层(2a);与衬底(1)的掺杂类型相反的掺杂的非晶硅层(2b);以及透明导电材料层(3);所述电池的特征在于,在衬底(1)与钝化层(2a)之间,所述电池包括具有所谓“高少数载流子迁移率”的晶体材料的层(5),在该层中,衬底(1)少数载流子的迁移率(μm)大于所述少数载流子在衬底(1)中的迁移率。本发明还涉及制造这种太阳能电池的工艺。
  • 光发电装置-201480017109.4
  • 小林英治 - 长州产业株式会社
  • 2014-03-14 - 2017-05-24 - H01L31/0747
  • 本发明的目的是提供填充因子高的光发电装置。光发电装置(10)包括多层状的光伏元件(11);以及层叠在光伏元件(11)的一个面上的第一集电构件(12)和层叠在另一个面上的第二集电构件(13),光伏元件(11)包括n型晶体半导体基板(14);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第一集电构件(12)侧的第一本征非晶系硅薄膜(15)、p型非晶系硅薄膜(16)和第一透明导电膜(17);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第二集电构件(13)侧的n型非晶系硅薄膜(19)和第二透明导电膜(20),p型非晶系硅薄膜(16)的膜厚小于6nm,第一透明导电膜(17)表面中的第一集电构件(12)的非层叠区域(25)的最大宽度小于2mm。
  • 光伏发电元件及其制造方法-201480025001.X
  • 绵引达郎 - 三菱电机株式会社
  • 2014-05-09 - 2017-03-29 - H01L31/0747
  • 在作为半导体基板的n型单晶硅基板1的与光入射面相反一侧的面,在第1导电类型非晶质半导体膜(n型非晶硅层5)上具备载流子浓度低的第1导电性半导体膜(第1氧化铟层9),在其上具备载流子浓度高的第2导电性半导体膜(第2氧化铟层10),在载流子浓度低的第1导电性半导体膜中具备绝缘性微粒8。由此,即使使光发生散射而延长光程长度,也不引起导电性半导体膜中的吸收且没有损失,能够同时实现红外吸收的抑制和由有效的散射带来的光程长度的增大,不导致电气特性的劣化,在100μm以下的薄型半导体基板的情况下,也能够得到高的变换效率。
  • 光电转换元件-201480008353.4
  • 木本贤治 - 夏普株式会社
  • 2014-03-03 - 2017-03-08 - H01L31/0747
  • 一种光电转换元件,包括半导体、在半导体上设置且含有氢化非晶硅的本征层、覆盖本征层的一部分且含有第一导电型的氢化非晶硅的第一导电型层、含有第二导电型的氢化非晶硅的第二导电型层以及覆盖第一导电型层的端部区域的绝缘膜,第二导电型层的端部位于绝缘膜上或者绝缘膜上方。
  • 光生伏打元件及其制造方法-201380043653.1
  • 绵引达郎;桧座秀一;佐藤刚彦 - 三菱电机株式会社
  • 2013-08-27 - 2017-03-08 - H01L31/0747
  • 在n型硅基板1的第1主面(1A)、侧面(1C)以及第2主面(1B)的周缘部处具备第1非晶硅i层(2)和非晶硅p层(4)。另一方面,在第1主面(1A)和侧面(1C)上具有第1ITO层(6),在第2主面(1B)上具备第2非晶硅i层(3)和非晶硅n层(5),在其上残留周缘部而具有面积比n型硅基板(1)小的第2ITO层(7)。而且,在第2主面(1B)上的周缘部处,具有将第1非晶硅i层(2)、非晶硅p层(4)、第2非晶硅i层(3)、非晶硅n层(5)按该顺序层叠的构造。因而,不需要追加的工艺而能够分离第1ITO层(6)和第2ITO层(7),能够防止泄漏电流。而且,在端部处也确保各个膜的顺序,正常地维持电荷的流动,由此能够发挥集电效果并发挥电池功能,使有效面积最大。
  • 太阳能电池-201280074233.5
  • C·巴立夫;乔纳斯·盖斯比勒 - 洛桑联邦理工学院
  • 2012-06-29 - 2016-11-09 - H01L31/0747
  • 本发明涉及一种太阳能电池,包括:半导体晶圆(1);发射极,由至少一个发射极区域(20)形成,至少一个发射极区域(20)包括至少第一导电类型的第一层(3)和允许载流子提取或注入的第一接触层(4);背接触,包括至少第二导电类型的第二层(6)和允许载流子提取或注入的第二接触层(4),第二导电类型与第一导电类型相反;电接触(8、9),被分别连接到发射极区域(20)和背接触,并且被设计为从太阳能电池中输出电流。根据本发明,发射极的面积占所述晶圆(1)的设置有发射极区域(20)的一侧的面积的0.5%至15%,晶圆(1)的该侧的面积的剩余部分覆盖有包括至少第一钝化层(12、16)和至少一个第一可选附加层在内的第一钝化区域(40),所述至少一个第一可选附加层使得第一钝化层不允许载流子提取或注入,第一钝化区域未被所述发射极区域(20)的所述第一导电类型的第一层(3)完全覆盖。
  • 光电转换元件-201480008279.6
  • 木本贤治 - 夏普株式会社
  • 2014-03-27 - 2015-10-21 - H01L31/0747
  • 一种光电转换元件,包括在第一导电型的半导体上设置且含有氢化非晶硅的本征层、覆盖本征层的一部分且含有第一导电型的氢化非晶硅的第一导电型层、含有第二导电型的氢化非晶硅的第二导电型层以及绝缘层,第一电极经由第二导电型层设置在第一导电型层上,并且,第一电极的至少一部分位于第一导电型层和本征层相接的区域的上方,第二电极的至少一部分位于第二导电型层和本征层相接的区域的上方。
  • 光伏装置-201280029397.6
  • 矢野步;大钟章义 - 三洋电机株式会社
  • 2012-03-21 - 2014-02-26 - H01L31/0747
  • 本发明提供一种光伏装置,其具备半导体基板(10)、形成在半导体基板(10)的表面上的i型非晶质层(12i)、形成在i型非晶质层(12i)上的p型非晶质层(12p)、形成在半导体基板(10)的背面上的i型非晶质层(16i)、和形成在i型非晶质层(16i)上的n型非晶质层(16n),在i型非晶质层(12i)或i型非晶质层(16i)中,具有从与半导体基板(10)的界面附近沿着膜厚方向浓度台阶状地减少的氧浓度分布,i型非晶质层(16i)的台阶状部分中的氧浓度比i型非晶质层(16i)的台阶状部分中的氧浓度高。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top