[发明专利]光发电装置有效
申请号: | 201480017109.4 | 申请日: | 2014-03-14 |
公开(公告)号: | CN105103307B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 小林英治 | 申请(专利权)人: | 长州产业株式会社 |
主分类号: | H01L31/0747 | 分类号: | H01L31/0747;H01L31/20 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 | 代理人: | 周善来,李雪春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的是提供填充因子高的光发电装置。光发电装置(10)包括多层状的光伏元件(11);以及层叠在光伏元件(11)的一个面上的第一集电构件(12)和层叠在另一个面上的第二集电构件(13),光伏元件(11)包括n型晶体半导体基板(14);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第一集电构件(12)侧的第一本征非晶系硅薄膜(15)、p型非晶系硅薄膜(16)和第一透明导电膜(17);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第二集电构件(13)侧的n型非晶系硅薄膜(19)和第二透明导电膜(20),p型非晶系硅薄膜(16)的膜厚小于6nm,第一透明导电膜(17)表面中的第一集电构件(12)的非层叠区域(25)的最大宽度小于2mm。 | ||
搜索关键词: | 发电 装置 | ||
【主权项】:
一种光发电装置,其具备:多层状的光伏元件;以及层叠在所述光伏元件的一个面上的第一集电构件和层叠在另一个面上的第二集电构件,所述光伏元件具有:n型晶体半导体基板;依次层叠在所述n型晶体半导体基板的所述第一集电构件侧的第一本征非晶系硅薄膜、p型非晶系硅薄膜和第一透明导电膜;以及依次层叠在所述n型晶体半导体基板的所述第二集电构件侧的n型非晶系硅薄膜和第二透明导电膜,所述第一集电构件具有:多个母线电极I,以彼此平行的方式形成;以及多个指状电极I,与所述母线电极I连接,以彼此平行的方式形成,所述第二集电构件具有:多个母线电极II,以彼此平行的方式形成;以及多个指状电极II,与所述母线电极II连接,以彼此平行的方式形成,所述光发电装置的特征在于,所述p型非晶系硅薄膜的膜厚为1nm以上且小于5nm,所述第一透明导电膜表面中的所述第一集电构件的非层叠区域的最大宽度小于2mm,所述指状电极I的间隔为0.1mm以上且小于2mm,所述n型非晶系硅薄膜的膜厚为3nm以上且为10nm以下,所述指状电极II的间隔大于2mm且为4mm以下。
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