[实用新型]GaN基等离子激元探测器有效
申请号: | 201420150501.3 | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN203760501U | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 王俊龙;梁士雄;邢东;张立森;杨大宝;蔚翠;冯志红 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L31/108 | 分类号: | H01L31/108;H01L31/0352 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 米文智 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种GaN基等离子激元探测器,涉及半导体器件领域。自下至上包括衬底、AlN缓冲层、GaN层和AlGaN层,AlGaN层上方左侧和右侧为源端和漏端欧姆接触金属层,源端和漏端欧姆接触金属层与AlGaN和GaN层接触,且在AlGaN和GaN层上的厚度相等且大于AlGaN层厚度;中间为石墨烯层,包括第一、第二石墨烯层和石墨烯周期型栅肖特基接触层,且与AlGaN层和GaN层接触,第一与第二石墨烯层相连且呈T形,第二石墨烯层与石墨烯周期型栅肖特基接触层相连;第一石墨烯层上设有欧姆接触电极。本实用新型采用石墨烯周期型栅结构,与金属栅相比,增加了太赫兹波透过率和太赫兹波与二维电子气的耦合效率。 | ||
搜索关键词: | gan 等离子 探测器 | ||
【主权项】:
一种GaN基等离子激元探测器,其特征在于自下至上包括衬底(10)、AlN缓冲层(9)、GaN层(8)和AlGaN层(2),AlGaN层(2)面积小于GaN层(8)面积,在AlGaN层(2)上方左侧为源端欧姆接触金属层(1),AlGaN层(2)上方右侧为漏端欧姆接触金属层(6),所述源端欧姆接触金属层(1)和漏端欧姆接触金属层(6)均与AlGaN层(2)和GaN层(8)相接触,源端欧姆接触金属层(1)和漏端欧姆接触金属层(6)在AlGaN层(2)和GaN层(8)上的厚度相等且大于AlGaN层(2)的厚度;AlGaN层(2)上方中间为石墨烯层,所述石墨烯层包括第一石墨烯层(3)、第二石墨烯层(5)和石墨烯周期型栅肖特基接触层(7),所述第一石墨烯层(3)与第二石墨烯层(5)相连且呈T形分布,第二石墨烯层(5)与石墨烯周期型栅肖特基接触层(7)相连,所述石墨烯周期型栅肖特基接触层(7)由平行且均匀分布的10‑100个条形石墨烯构成,所述石墨烯层与AlGaN层(2)和GaN层(8)相接触;所述第一石墨烯层(3)上设有欧姆接触电极(4)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的