[实用新型]GaN基等离子激元探测器有效

专利信息
申请号: 201420150501.3 申请日: 2014-03-31
公开(公告)号: CN203760501U 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 王俊龙;梁士雄;邢东;张立森;杨大宝;蔚翠;冯志红 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01L31/108 分类号: H01L31/108;H01L31/0352
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 米文智
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开了一种GaN基等离子激元探测器,涉及半导体器件领域。自下至上包括衬底、AlN缓冲层、GaN层和AlGaN层,AlGaN层上方左侧和右侧为源端和漏端欧姆接触金属层,源端和漏端欧姆接触金属层与AlGaN和GaN层接触,且在AlGaN和GaN层上的厚度相等且大于AlGaN层厚度;中间为石墨烯层,包括第一、第二石墨烯层和石墨烯周期型栅肖特基接触层,且与AlGaN层和GaN层接触,第一与第二石墨烯层相连且呈T形,第二石墨烯层与石墨烯周期型栅肖特基接触层相连;第一石墨烯层上设有欧姆接触电极。本实用新型采用石墨烯周期型栅结构,与金属栅相比,增加了太赫兹波透过率和太赫兹波与二维电子气的耦合效率。
搜索关键词: gan 等离子 探测器
【主权项】:
一种GaN基等离子激元探测器,其特征在于自下至上包括衬底(10)、AlN缓冲层(9)、GaN层(8)和AlGaN层(2),AlGaN层(2)面积小于GaN层(8)面积,在AlGaN层(2)上方左侧为源端欧姆接触金属层(1),AlGaN层(2)上方右侧为漏端欧姆接触金属层(6),所述源端欧姆接触金属层(1)和漏端欧姆接触金属层(6)均与AlGaN层(2)和GaN层(8)相接触,源端欧姆接触金属层(1)和漏端欧姆接触金属层(6)在AlGaN层(2)和GaN层(8)上的厚度相等且大于AlGaN层(2)的厚度;AlGaN层(2)上方中间为石墨烯层,所述石墨烯层包括第一石墨烯层(3)、第二石墨烯层(5)和石墨烯周期型栅肖特基接触层(7),所述第一石墨烯层(3)与第二石墨烯层(5)相连且呈T形分布,第二石墨烯层(5)与石墨烯周期型栅肖特基接触层(7)相连,所述石墨烯周期型栅肖特基接触层(7)由平行且均匀分布的10‑100个条形石墨烯构成,所述石墨烯层与AlGaN层(2)和GaN层(8)相接触;所述第一石墨烯层(3)上设有欧姆接触电极(4)。
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