[实用新型]粘接装置有效
申请号: | 201420123809.9 | 申请日: | 2014-03-18 |
公开(公告)号: | CN203850255U | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 三谷宗久;大薮恭也;塚原大祐 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供粘接装置。粘接装置是用于利用树脂片粘接电子零件的粘接装置。粘接装置包括:第1模具构件,其具有能够容纳粘接准备体的第1型腔,该粘接准备体包括电子零件和与电子零件隔开间隔地相对配置的树脂片;弹性构件,其以能够与第1型腔一起形成第1密闭空间的方式与树脂片相对配置;以及差压产生部件,其与第1模具构件相连接,用于使第1密闭空间的气压比相对于弹性构件位于第1密闭空间的相反侧的空间的气压低。粘接装置通过使差压产生部件工作,从而弹性构件向第1型腔侧移动,由此,粘接准备体被沿着电子零件与树脂片相对的相对方向按压,从而利用树脂片粘接电子零件。能够使装置结构变简单,小型化,搬运性优异。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种粘接装置,其用于利用树脂片粘接电子零件,其特征在于,该粘接装置包括:第1模具构件,其具有能够容纳粘接准备体的第1型腔,该粘接准备体包括上述电子零件和与上述电子零件隔开间隔地相对配置的上述树脂片;弹性构件,其以能够与上述第1型腔一起形成第1密闭空间的方式与上述树脂片相对配置;以及差压产生部件,其与上述第1模具构件相连接,用于使上述第1密闭空间的气压比相对于上述弹性构件位于上述第1密闭空间的相反侧的空间的气压低;通过使上述差压产生部件工作,从而上述弹性构件向上述第1型腔侧移动,由此,上述粘接准备体被沿着上述电子零件与上述树脂片相对的相对方向按压,从而利用上述树脂片粘接上述电子零件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420123809.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:RTA机台的反应室
- 下一篇:太阳能背板等离子处理装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造