[发明专利]轨道式闸微阀装置有效
| 申请号： | 201410842592.1 | 申请日： | 2014-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN105805328B | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 邓宁;李勇俊;张胜昌;段飞 | 申请（专利权）人： | 浙江盾安人工环境股份有限公司 |
| 主分类号： | F16K3/02 | 分类号： | F16K3/02;F16K3/30 |
| 代理公司： | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人： | 秦晓刚 |
| 地址： | 311835 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种轨道式闸微阀装置，由上下两层硅片键合而成，第一层硅片底部设有凹槽，第二层硅片上有流体入口、流体出口和控制端口，所述流体入口、流体出口和控制端口均上下贯穿第二层硅片，在第一层硅片的底部凹槽内设有微阀轨道、移动构件和致动梁，所述移动构件设置于微阀轨道上方，所述致动梁一端连接底部凹槽的侧壁，另一端连接在移动构件上，所述致动梁上连接有双金属热致动器，所述移动构件上设有闸门，通过致动梁驱动移动构件沿微阀轨道运动来控制闸门启闭流体入口和流体出口。本发明避免了大质量块闸门的必要性，为更为丰富的闸微阀结构设计提供了可能。 | ||
| 搜索关键词： | 轨道 式闸微阀 装置 | ||
【主权项】：
1.轨道式闸微型阀装置，由上下两层硅片键合而成，其特征在于：第一层硅片底部设有凹槽，第二层硅片上设有流体入口、流体出口和控制端口，所述流体入口、流体出口和控制端口均上下贯穿第二层硅片，在第一层硅片与第二层硅片键合后，所述第一层硅片的底部凹槽、流体入口、流体出口、控制端口以及第一层硅片的下表面和第二层硅片的上表面一起构成供流体流动的流体腔室，在第一层硅片的底部凹槽内设有微阀轨道、移动构件和致动梁，所述移动构件设置于微阀轨道上方，所述致动梁一端连接底部凹槽的侧壁，另一端连接在移动构件上，所述致动梁上连接有双金属热致动器，所述移动构件上设有闸门，通过致动梁驱动移动构件沿微阀轨道运动来控制闸门启闭流体入口和流体出口。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江盾安人工环境股份有限公司，未经浙江盾安人工环境股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410842592.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
