[发明专利]一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物在审
| 申请号： | 201410714546.3 | 申请日： | 2014-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN105884949A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 刘敬成;李虎;刘晓亚;穆启道;孙小侠;刘仁;纪昌炜 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司;江南大学 |
| 主分类号： | C08F212/08 | 分类号： | C08F212/08;C08F222/06;C08F212/14;G03F7/004 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215124 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体的树脂应用于光刻胶，属于紫外光固化领域。该支化型光敏树脂主要是以巯基链转移剂、苯乙烯、马来酸酐为单体在甲苯溶液中进行沉淀聚合合成具有支化结构的聚苯乙烯马来酸酐共聚物，再接枝含羟基的丙烯酸单体引入光敏基团，得到具有光敏基团的支化型树脂，最终用于负性光刻胶中。本发明制备方法简单，反应条件温和，通过引入不同官能度的含羟基的丙烯酸单体可以控制树脂的双键当量，该支化型树脂应用在负性光刻制程中具有优良的显影性能，较快的显影速度，由此拓宽了该支化型光敏树脂的应用领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 支化型 光敏 聚苯乙烯 马来 酸酐 基体 树脂 光刻 组合 | ||
【主权项】：
一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物，其特征在于所含组分及各组分的质量分数为：![]()
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