[发明专利]一种电化学水垢去除装置及去除水垢的方法有效
| 申请号： | 201410522671.4 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104211235A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 章明歅;章俊杰 | 申请（专利权）人： | 章明歅;章俊杰 |
| 主分类号： | C02F9/06 | 分类号： | C02F9/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 100192 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元和水垢晶核生长分离单元，所述水垢晶核生长分离单元，用于所述水垢晶核生成单元生成的晶核的生长和水垢的分离，包括：过滤区，所述过滤区设置有过滤网和出口；位于所述过滤区下方并与其相通的斜板沉淀区，所述斜板沉淀区设置有斜板；位于所述斜板沉淀区下方的排泥斗；所述斜板沉淀区和排泥斗之间形成空腔，所述空腔设有进口，使所述水垢晶核生成单元生成的含有水垢晶核的水由切线方向进入所述空腔中，含有水垢晶核的水在空腔中依次进行旋流分离和整流。本发明还提供了一种根据上述技术方案所述电化学水垢去除装置去除水垢的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 水垢 去除 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元和水垢晶核生长分离单元，所述水垢晶核生长分离单元，用于所述水垢晶核生成单元生成的晶核的生长和水垢的分离，包括：过滤区，所述过滤区设置有过滤网和出口；位于所述过滤区下方并与其相通的斜板沉淀区，所述斜板沉淀区设置有斜板；位于所述斜板沉淀区下方的排泥斗；所述斜板沉淀区和排泥斗之间形成空腔，所述空腔设有进口，使所述水垢晶核生成单元生成的含有水垢晶核的水由切线方向进入所述空腔中，含有水垢晶核的水在空腔中依次进行旋流分离和整流。
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