[发明专利]一种电加热设备用超温自保护晶闸管的制作方法有效
申请号: | 201410487218.4 | 申请日: | 2014-09-22 |
公开(公告)号: | CN104282557B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 于能斌;于泽;张宏伟;王景波;刘欣宇 | 申请(专利权)人: | 鞍山市良溪电力科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/332 | 分类号: | H01L21/332;H01L21/56 |
代理公司: | 鞍山嘉讯科技专利事务所21224 | 代理人: | 张群 |
地址: | 114018 辽宁省鞍山市铁西*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种电加热设备用超温自保护晶闸管的制作方法,包括以下步骤1)清洗硅片;2)石英闭管清洗;3)镓、铝源一次全扩散;4)P+扩散;5)氧化;6)一次光刻;7)磷扩散;8)割圆;9)烧结;10)蒸发;11)合金;12)二次光刻;13)台面成型;14)封装;15)晶闸管测试。1)在控制极回路中加入温度控制器,实现超高温保护;2)采用高纯镓、高纯铝源一次全扩散的制造工艺技术,扩散均匀,效率高;3)采用阳极P+扩散技术降低硅片与钼片接触的压降;4)烧结过程采用电脑程控仪控制设备烧结温度,精确稳定,一致性好;5)外密封管壳采用无氧铜加陶瓷密封,热阻小,防潮性能高。 | ||
搜索关键词: | 一种 加热 备用 保护 晶闸管 制作方法 | ||
【主权项】:
一种电加热设备用超温自保护晶闸管的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:1)清洗硅片:将单晶硅片放在洗洁精:去离子水=30ml:500ml的清洗液中超声1小时以上,用热去离子水冲洗30~35遍,用冷去离子水冲洗30~35遍;将硅片摆在四氟架上,用纯氢氟酸超声10分钟以上,用常温去离子水冲洗30~35遍,再用热去离子水冲洗30~35遍;然后将硅片放在质量浓度为5%~8%的氢氧化钠溶液中,在85℃恒温水浴中煮1分钟以上,用冷去离子水冲洗30~35遍,热去离子水冲洗30~35遍,测试清洗后的出水电阻率达到10ΜΩ以上后,将硅片放到180~190℃的烘箱中烘1小时以上;2)石英闭管清洗将石英闭管放入体积比为H2O:HF=4:1的氢氟酸溶液中,浸泡40~45分钟;然后取出用冷、热高纯水交替冲洗各30~35遍;放入180℃恒温烘箱中烘1小时以上;3)镓、铝源一次全扩散将硅片两面涂铝源、镓源放到源瓶中,然后放到石英闭管里一起扩散,扩散炉温度为1264~1266℃,扩散时间为12~15小时,扩散时间到后关闭扩散炉电源,自然降温至室温,取出石英闭管;4)P+扩散将镓、铝一次全扩散完的硅片从石英闭管中取出,单面涂P+源,并放到1240℃扩散炉中恒温加热1小时以上,闭炉后温度降到室温取出;5)氧化将硅片用氢氟酸超声5~6分钟,用体积比为氢氟酸:硝酸=1:10的溶液漂洗30~35秒,用常温去离子水冲洗30~35遍,再用热去离子水冲洗30~35遍,测试出水电阻率达到10ΜΩ以上后,放入180℃恒温烘箱中烘1小时以上;然后在高温扩散炉中通氧气氧化7小时以上;6)一次光刻将氧化后的硅片需要刻图形的一面甩光刻胶,放到烘干箱中,在80℃温度下烘干30~35分钟,冷却后在光刻机下曝光;曝光后在120#汽油溶液中显影10分钟,在120#汽油溶液中定影2分钟,在烘箱中140℃温度下烘干,并将背面涂真空蜂蜡,再用光刻腐蚀液腐蚀,然后去胶烘干;7)磷扩散将体积比为氨水:双氧水:去离子水=1:2:5的溶液配制成1#液;将体积比为盐酸:双氧水:去离子水=1:2:7的溶液配制成2#液;将光刻好并经测验合格的硅片,用1#液、2#液清洗后,用去离子水冲洗干净,测水纯度在10ΜΩ以上即可;将硅片烘干后放到磷扩散炉中,待炉温升到1200℃通磷源和氧气、氮气保护气体,炉温升到1250℃恒温加热100分钟后,关闭磷源,停止升温,继续通保护气体,直到扩散炉降温到1000℃以下闭炉闭气;8)割圆用高速割圆机将硅片光刻图形以外的部分去掉;9)烧结将芯片放在石墨船中,将石墨船放到钢架上,将钢架推入真空烧结炉的恒温区中,开启真空泵及真空机组,当真空达2X10‑3Pa时推入烧结炉,在550℃温度下恒温加热20~25分钟,然后以每分钟2℃的速度升温到650℃;恒温加热20~25分钟,再以每分钟2℃的速度降温至550℃,取下炉盖;自然降温至400℃时推离炉体,当温度低于200℃时,放气取出石墨船;10)蒸发用真空镀膜机将高纯铝蒸发到硅片表面,硅片表面铝层厚度达到10μm以上;11)合金将真空镀膜机蒸发完的芯片放到合金炉中,540℃温度下恒温加热40~45分钟;12)二次光刻同步骤6),腐蚀液为磷酸;13)台面成型用自动磨角机将芯片边缘磨角,靠近阳极边缘磨成25度角,靠近阴极边缘磨成3度角,并用体积比为氢氟酸:硝酸=1:3的腐蚀液腐蚀台面,用去离子水冲洗后烘干,用硅橡胶保护,在220℃温度下老化72小时后即制成芯片;14)封装在100℃温度下对芯片进行静态耐压和反向漏电流测试,合格后的芯片即可封装;门极采用聚四氟乙烯膜+铜触点镀银+控制极回路的形式,控制极回路中设有温度控制器;外密封管壳采用无氧铜加陶瓷密封;封装时,沿圆周将阳极垫片定位条放置在下台面处,芯片四周用聚四氟乙烯膜挤紧,将阴极引线的一端插入阴极插头并套热缩管缩紧,将控制极引线的一端用压线钳子将引线与焊片压在一起并用锡焊接,套热缩管并使热缩管缩紧,然后将此端插入门极引出的过渡孔中后用夹线钳夹紧,并套上硅橡胶管,将管壳上盖旋紧;阴极引线和控制引线的另一端压扁并用焊锡封住堵头后用锡丝焊接并套上热缩管,用酒精灯烘烤使热缩管箍紧;15)晶闸管测试封装好的晶闸管做触发电流IGT和触发电压VGT测试,当温度达到或超过100℃时控制极信号切断,晶闸管不导通即为合格。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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