[发明专利]用于超高分辨率荧光成像的铜基悬空样品台制备方法

摘要

本发明涉及一种用于超高分辨率荧光成像的铜基悬空样品台制备方法，其技术领域涉及超高分辨率荧光成像，特别涉及铜箔基底石墨烯样品台的制作。在生长有石墨烯的铜箔基底上利用聚焦离子束刻蚀一个微米大小的孔径，并结合化学方法保护悬空石墨烯层，将荧光样品放在石墨烯层上。使用这种样品台，可以用表面等离子体透镜聚焦和压缩入射激光束得到更小的局域在近场的光斑，该光斑可以透过超薄石墨烯层照射样品和激发荧光。这样的铜基悬空石墨烯样品台和相应的表面等离子体透镜聚焦方式可以减少多余背景散射，降低样品荧光淬灭，提高图像对比度，减少活体组织损害。

主权项

一种用于超高分辨率荧光成像的铜基悬空样品台制备方法，其特征在于，生长好石墨烯的铜箔基底上有一个微米级小孔，微米级小孔仅仅贯穿铜箔层，具体包括如下步骤：（1）先将生长好石墨烯的铜箔基底，铜箔层25微米厚，纯度99.98%，用聚焦离子束打一个深度为20微米，半径为2微米的小孔；（2）再在石墨烯层表面滴上少量有机玻璃溶液，即聚甲基丙烯酸甲酯PMMA，至凝固在石墨烯层上；（3）然后将涂有有机玻璃的石墨烯铜箔基底放入已经配好的三氯化铁溶液中轻微晃荡，使其表面充分与溶液接触；（4）十分钟后，将步骤（ 3）的石墨烯铜箔基底从三氯化铁溶液中捞起，放入去离子水中洗涤，晾干，再在显微镜下观察孔内是否将剩余的5微米铜箔层溶掉，反复进行（3）、（4）的过程，直至剩余的5微米铜箔层全部被溶解掉；（5）将步骤（ 4）所得石墨烯铜箔基底放在显微镜平台，用显微镜的光照射石墨烯铜箔基底，透光，说明孔上铜箔层已经被完全溶解；（6）将步骤（ 5）检测后石墨烯铜箔基底放入丙酮溶液中，将石墨烯表面的PMMA除掉，至此完成超高分辨率荧光成像铜基悬空石墨烯样品台的制备。