[发明专利]抗扰触控感测堆栈有效
申请号: | 201410367943.8 | 申请日: | 2014-07-29 |
公开(公告)号: | CN105320335B | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 李杏樱;唐大庆;卢添荣 | 申请(专利权)人: | 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 210038 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种抗扰触控感测堆栈包括透光基板、至少一个金属网栅感测单元、遮光阵列层和至少一个第一抗扰斑块。金属网栅感测单元具有多条金属线共平面地设置于透光基板上,相邻的所述金属线之间形成第一间隙区。遮光阵列层设置于金属网栅感测单元上,对应覆盖所述金属线,且遮光阵列层设置至少一个开口。第一抗扰斑块设置于第一间隙区内。 | ||
搜索关键词: | 感测单元 金属网栅 遮光阵列 金属线 触控感测 透光基板 斑块 堆栈 共平面 间隙区 开口 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种抗扰触控感测堆栈,包括:透光基板;至少一个金属网栅感测单元,具有多条金属线共平面地设置于所述透光基板上,相邻的所述金属线之间形成第一间隙区;遮光阵列层,设置于所述金属网栅感测单元上,对应覆盖所述金属线,且所述遮光阵列层设置至少一个开口;和至少一个第一抗扰斑块,设置于所述第一间隙区内,其中,所述第一抗扰斑块与所述金属网栅感测单元具有相同的材质,所述遮光阵列层还设置于所述第一抗扰斑块上,对应覆盖所述第一抗扰斑块。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司,未经南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410367943.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种进程隔离式监控方法和系统
- 下一篇:一种黄色长余辉发光材料及其制备方法