[发明专利]抗扰触控感测堆栈有效
申请号: | 201410367943.8 | 申请日: | 2014-07-29 |
公开(公告)号: | CN105320335B | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 李杏樱;唐大庆;卢添荣 | 申请(专利权)人: | 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 210038 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 感测单元 金属网栅 遮光阵列 金属线 触控感测 透光基板 斑块 堆栈 共平面 间隙区 开口 覆盖 | ||
1.一种抗扰触控感测堆栈,包括:
透光基板;
至少一个金属网栅感测单元,具有多条金属线共平面地设置于所述透光基板上,相邻的所述金属线之间形成第一间隙区;
遮光阵列层,设置于所述金属网栅感测单元上,对应覆盖所述金属线,且所述遮光阵列层设置至少一个开口;和
至少一个第一抗扰斑块,设置于所述第一间隙区内,
其中,所述第一抗扰斑块与所述金属网栅感测单元具有相同的材质,所述遮光阵列层还设置于所述第一抗扰斑块上,对应覆盖所述第一抗扰斑块。
2.如权利要求1所述的抗扰触控感测堆栈,进一步包括:
彩色滤光层,具有多个滤光体,对应设置于所述开口,每一滤光体部分覆盖所述遮光阵列层。
3.如权利要求1所述的抗扰触控感测堆栈,其中所述金属网栅感测单元包括:
第一金属网栅感测单元,设置于所述透光基板上;
绝缘层,设置于所述第一金属网栅感测单元上;和
第二金属网栅感测单元,设置于所述绝缘层上。
4.如权利要求3所述的抗扰触控感测堆栈,其中所述第二金属网栅感测单元的形状匹配并覆盖所述第一金属网栅感测单元。
5.如权利要求3所述的抗扰触控感测堆栈,其中所述绝缘层或所述遮光阵列层的形状匹配对应所述第一金属网栅感测单元和所述第二金属网栅感测单元的形状。
6.如权利要求3所述的抗扰触控感测堆栈,其中所述遮光阵列层与所述绝缘层为相同材质。
7.如权利要求1所述的抗扰触控感测堆栈,其中所述透光基板的边缘为一曲面。
8.如权利要求3所述的抗扰触控感测堆栈,其中所述绝缘层具有抗眩性质。
9.如权利要求1所述的抗扰触控感测堆栈,其中所述第一抗扰斑块呈弯折样式。
10.如权利要求1所述的抗扰触控感测堆栈,进一步包括:
接地单元,与所述金属线共平面,且与相邻的所述金属线之间形成第二间隙区;和
至少一个第二抗扰斑块,设置于所述第二间隙区内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司,未经南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410367943.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种进程隔离式监控方法和系统
- 下一篇:一种黄色长余辉发光材料及其制备方法