[发明专利]纳米二氧化硅薄膜基抛光片及其制备方法有效
| 申请号： | 201410353022.6 | 申请日： | 2014-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN104128896B | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 陈森军;崔嘉敏 | 申请（专利权）人： | 上虞市自远磨具有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00;B24D18/00;C09D163/00;C09D7/12 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 312300 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米二氧化硅薄膜基抛光片及其制备方法，该制备方法包括如下步骤(1)制备纳米硅溶胶；(2)将预涂层涂布于PET带基上，得到处理过的基材；(3)将纳米硅溶胶、可溶性树脂和可溶性固化剂混合后，得到磨料涂布液；(4)将磨料涂布液均匀涂布于处理过的基材上，得到半成品在80～100℃固化40～60小时，得到所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片。(4)将磨料涂布液均匀涂布于步骤(2)处理过的基材上，得到半成品在80～100℃固化40～60小时，得到所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片。该纳米二氧化硅薄膜基抛光片切削力均匀，应用于光纤连接器时抛光效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 二氧化硅 薄膜 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在盐酸存在的条件下，向二氧化硅醇溶液中加入表面改性剂和水，搅拌加热反应完全后得到纳米硅溶胶；(2)将第一可溶性树脂和第一可溶性固化剂涂布于PET基片上形成预涂层，固化后得到处理过的基材；(3)将步骤(1)得到的纳米硅溶胶、第二可溶性树脂和第二可溶性固化剂混合后，得到磨料涂布液；(4)将步骤(3)得到的磨料涂布液均匀涂布于步骤(2)处理过的基材上，然后在80～100℃固化40～60小时，得到所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片；步骤(1)中，纳米硅溶胶中的硅粒子的粒径为50～140nm；步骤(3)中，所述的磨料涂布液涂布的厚度为5‑10μm。
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