[发明专利]一种PMMA作为基质的稀土红光薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201410316423.4 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN104045954A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 杨朝龙;尚明勇;姜郭庆;刘少君;李川;王国霞;何健 | 申请（专利权）人： | 重庆理工大学 |
| 主分类号： | C08L33/12 | 分类号： | C08L33/12;C08K5/00;C08J5/18;C09K11/06;C09K11/02 |
| 代理公司： | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人： | 张先芸 |
| 地址： | 400054 重*** | 国省代码： | 重庆;85 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种PMMA作为基质的稀土红光薄膜的制备方法，以稀土配合物Eu(TTA)2Tpy-OCH3作为发光分子，将该稀土铕配合物掺杂到PMMA基质中，通过溶剂蒸发方法得到薄膜产品；其中，PMMA和稀土配合物的重量之比为100：（1～10）。由于高分子基质对稀土发光的能量有传递作用，所以本发明制得的薄膜发光性能好，透明性能好。本发明主要用于电脑、电视、手机等电子终端，作为平板显示领域的发光材料。同比其他方法，本方法制备成本低，方法简单易操作。具有很广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pmma 作为 基质 稀土 红光 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种PMMA作为基质的高性能稀土红光材料的制备方法，其特征在于，以稀土配合物Eu(TTA)2Tpy‑OCH3作为发光分子，将该稀土铕配合物掺杂到PMMA基质中，通过溶剂蒸发方法得到薄膜产品；其中，PMMA和稀土配合物的重量之比为100：（1～10）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆理工大学，未经重庆理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410316423.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
