[发明专利]一种半导体材料抗腐蚀研磨剂在审
申请号: | 201410291994.7 | 申请日: | 2014-06-26 |
公开(公告)号: | CN104046323A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 范向奎 | 申请(专利权)人: | 青岛宝泰新能源科技有限公司 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种半导体材料抗腐蚀研磨剂,其特征在于,包括下列重量份数的物质:除蜡水5-8份,酸洗剂10-19份,二氧化氯11-16份,三乙胺8-12份,酒石酸5-9份,苯甲酸甲酯6-7份,聚乙烯醇2-3份,二氧化硅4-5份,过氧化氢7-9份,硫酸锌1-3份,硫酸镁2-4份,硬脂酸钙3-8份,分散剂1份。本发明半导体芯片化学机械研磨剂具备了较小的介质层磨损率和较低的腐蚀度,可以促进研磨粒子的稳定性,保持极高的钨去除速率。由于相对降低了机械力的作用强度,凹坑、腐蚀和介质层的损耗等问题也减小了。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体材料 腐蚀 研磨剂 | ||
【主权项】:
一种半导体材料抗腐蚀研磨剂,其特征在于,包括下列重量份数的物质:除蜡水5‑8份,酸洗剂10‑19份,二氧化氯11‑16份,三乙胺8‑12份,酒石酸5‑9份,苯甲酸甲酯6‑7份,聚乙烯醇2‑3份,二氧化硅4‑5份,过氧化氢7‑9份,硫酸锌1‑3份,硫酸镁2‑4份,硬脂酸钙3‑8份,分散剂1份。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛宝泰新能源科技有限公司,未经青岛宝泰新能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410291994.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种半芯片制造用研磨组合物
- 下一篇:一种化学机械研磨组合物