[发明专利]扭曲角度可控的多层石墨烯结构制备方法有效

专利信息
申请号: 201410289213.0 申请日: 2014-06-23
公开(公告)号: CN104029431B 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 刘智波;陈旭东;田建国 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;C01B32/194
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种扭曲角度可控的多层石墨烯制备方法,属于材料技术领域,涉及层与层之间扭曲角度可控的双层或多层石墨烯结构的制备。首先将SiO2/Si基底上的单层石墨烯单晶切割成两份并旋涂PMMA;然后腐蚀掉SiO2层使两份携带石墨烯的PMMA薄膜脱落;将其中一份转移到新的SiO2/Si基底上,去除PMMA,另一份固定在玻璃片上;将新基底和玻璃片分别固定,在显微操作系统下调整两块石墨烯的角度和位置,将其堆叠在一起;去除PMMA,获得一定扭曲角度的双层石墨烯。重复上述过程,可获得扭曲角度可控的多层石墨烯结构。采用本发明的方法,能够灵活、方便的获得角度可控的多层石墨烯结构,为石墨烯在光电子器件的应用奠定基础。 1
搜索关键词: 多层石墨烯 可控的 扭曲 石墨烯 制备 玻璃片 基底 去除 材料技术领域 显微操作系统 单层石墨烯 光电子器件 单晶切割 双层石墨 堆叠 新基 旋涂 薄膜 腐蚀 携带 灵活 重复 应用
【主权项】:
1.一种扭曲角度可控的多层石墨烯结构制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:将SiO2/Si基底上的单层石墨烯单晶切割成两份;步骤2:旋涂PMMA薄膜,并沿石墨烯的切割线切割成两份;步骤3:采用化学腐蚀液体将SiO2层腐蚀掉,从而使两份携带石墨烯的PMMA薄膜脱落;步骤4:将其中一份附着有目标石墨烯的PMMA层转移到新基底上,然后用丙酮洗去PMMA,将另外一份附着有目标石墨烯的PMMA层放到玻璃片上,于玻璃片接触的一面不含石墨烯;步骤5:将新基底固定在电动旋转台上,将玻璃片固定在显微操作系统上,在显微镜下调整两块石墨烯的角度和位置,将其堆叠在一起;步骤6:用丙酮洗去PMMA,即可得到扭曲的双层石墨烯,切割后石墨烯的两条边的夹角即为扭曲角度;步骤7:选定扭曲双层石墨烯中保留有单层的部分,重复步骤1至步骤6,可获得扭曲的三层石墨烯结构,多次重复可获得多层结构。
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