[发明专利]晶体管、制造晶体管的方法和包括晶体管的电子装置有效
申请号: | 201410282938.7 | 申请日: | 2014-06-23 |
公开(公告)号: | CN104347813B | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 孙暻锡;金善载;金兑相 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开晶体管、制造晶体管的方法和/或包括晶体管的电子装置。在示例实施方式中,晶体管包括彼此串联连接的第一场效应晶体管(FET)和第二FET,其中第一FET的第一栅极绝缘膜和第二FET的第二栅极绝缘膜具有不同的泄漏电流特性或不同的栅极电场特性。 | ||
搜索关键词: | 晶体管 栅极绝缘膜 电子装置 场效应晶体管 泄漏电流特性 栅极电场 制造 | ||
【主权项】:
一种晶体管,包括:第一场效应晶体管(FET),其包括第一栅电极、第一栅极绝缘膜、沟道层、接触所述沟道层的第一部分的漏电极、以及接触所述沟道层的第二部分的中间电极;第二场效应晶体管,其与所述第一场效应晶体管串联连接,所述第二场效应晶体管包括第二栅电极、第二栅极绝缘膜、所述沟道层、所述中间电极、以及接触所述沟道层的第三部分的源电极;其中所述第一栅极绝缘膜和所述第二栅极绝缘膜中的一个比其中的另一个产生更大的泄漏电流,或者所述第一栅极绝缘膜和所述第二栅极绝缘膜中的一个比其中的另一个提供更低的栅极电场。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410282938.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择