[发明专利]钕铁硼磁体电镀镍方法

摘要

本发明公开了一种钕铁硼磁体电镀镍方法，具体包括对钕铁硼磁体进行前处理工艺、预镀镍工艺、水洗工艺、镀半光镍工艺、水洗工艺、镀光亮镍工艺和水洗工艺，在预镀镍工艺中采用由硫酸镍、硼酸、琥珀酸酯钠盐、羧乙基磺酸钠和水组成的第一电镀镍溶液，在镀半光镍处理过程中采用由硫酸镍、柠檬酸氢二铵、硼酸、氨水和水组成的第二电镀镍溶液，第一电镀镍溶液中不含有氯离子，第一电镀镍溶液中含有琥珀酸酯钠盐和羧乙基磺酸钠，第二电镀镍溶液中含有适量的柠檬酸氢二铵；优点是可以减少电镀过程对钕铁硼磁体的磁性能的影响，保证钕铁硼磁体具有较好的磁性能，并且对于端部角度较小的产品进行电镀时，其镀层厚度均匀分布性也较好。

主权项

一种钕铁硼磁体电镀镍方法，其特征在于包括以下步骤：①对钕铁硼磁体进行前处理；②预镀镍：将前处理后的钕铁硼磁体放入第一电镀镍溶液中进行预镀镍处理，时间为2500～5500秒，其中第一电镀镍溶液由硫酸镍、硼酸、琥珀酸酯钠盐、羧乙基磺酸钠和水组成，硫酸镍的质量体积浓度为220～380克/升，硼酸的质量体积浓度为30～60克/升，琥珀酸酯钠盐的质量体积浓度为5～20毫克/升，羧乙基磺酸钠的质量体积浓度为5～20毫克/升，预镀镍处理过程中电流密度为0.1～0.6安培/平方分米，第一电镀镍溶液的温度为40～65摄氏度，PH值为3.5～4.8；③采用去离子水对预镀镍处理过的钕铁硼磁体进行多次清洗；④镀半光镍：将清洗后的钕铁硼磁体放入第二电镀镍溶液中进行镀半光镍处理，时间为3500～6500秒，第二电镀镍溶液由硫酸镍、柠檬酸氢二铵、硼酸、氨水和水组成，硫酸镍的质量体积浓度为100～210克/升，柠檬酸氢二铵的质量体积浓度为65～145克/升，硼酸的质量体积浓度为10～40克/升，氨水的质量体积浓度为20～60毫升/升，镀半光镍处理过程中电流密度为0.2～0.7安培/平方分米，第二电镀镍溶液的温度为40～65摄氏度，PH值为5.5～7.5；⑤采用去离子水对镀半光镍处理过的钕铁硼磁体进行多次清洗，清洗过程中设置有超声波清洗，超声波功率为2000W,频率为20～60KHz；⑥镀光亮镍：将清洗后的钕铁硼磁体放入第三电镀镍溶液中进行镀光亮镍处理，时间为2500～5500秒，第三电镀镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸、糖精钠和水组成，硫酸镍的质量体积浓度为220～380克/升，氯化镍的质量体积浓度为20～60克/升，硼酸的质量体积浓度为30～60克/升，糖精钠的质量体积浓度为5～20毫克/升，镀光亮镍处理过程中电流密度为0.1～0.6安培/平方分米，第三电镀镍溶液的温度为40～65摄氏度，PH值为3.5～4.8；⑦采用去离子水对镀光亮镍处理过的钕铁硼磁体进行多次清洗，清洗过程中设置有超声波清洗，超声波功率为2000W,频率为40～138KHz。