[发明专利]带有应变源的GeSn量子阱红外发光器有效
申请号: | 201410185612.2 | 申请日: | 2014-05-05 |
公开(公告)号: | CN104300049A | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
发明(设计)人: | 刘艳;韩根全;张庆芳;王轶博 | 申请(专利权)人: | 重庆大学 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/34 |
代理公司: | 重庆华科专利事务所 50123 | 代理人: | 康海燕 |
地址: | 400030 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明提供一种带有应变源的GeSn量子阱红外发光器,其结构如下:在硅衬底上面为弛豫层GeSn,弛豫层上面是应变源势垒n+型SiGe与p+型SiGe,成对生长在有源区GeSn的四周区域,应变源势垒SiGe的一端为金属接触电极。应变源SiGe材料的晶格常数比有源区GeSn材料的小,从而对有源区GeSn材料形成沿z轴方向的单轴压应变,沿xy平面的双轴张应变,这种应变状态有利于GeSn材料从间接带隙变成直接带隙;通过GeSn与SiGe形成异质结量子阱结构,实现电子-空穴快速高效的辐射复合。这种结构能有效地将电子、空穴束缚在阱内,增大电子、空穴对的复合几率,从而提高发光器的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 带有 应变 gesn 量子 红外 发光 | ||
【主权项】:
一种带有应变源的GeSn量子阱红外发光器,其特征在于,包括:一弛豫层(102),生长在硅衬底(101)之上;一有源区(103),为单晶GeSn材料,位于弛豫层(102)之上;一第一应变源(105),为单晶n+型SiGe材料,与第二应变源(106),为单晶p+型SiGe材料,它们位于弛豫层(102)之上,并成对分布于有源区(103)四周区域;一第一电极(107),与第一应变源(105)相连;一第二电极(108),与第二应变源(106)相连;其中应变源材料的晶格常数比有源区材料的晶格常数小;应变源材料的带隙比有源区材料的带隙宽。
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