[发明专利]膜厚测量装置和膜厚测量方法有效
| 申请号： | 201410163134.5 | 申请日： | 2014-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN103994740A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 张建楠;封宾;袁剑峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/08 | 分类号： | G01B21/08 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种膜厚测量装置和膜厚测量方法，其中膜厚测量装置包括：压力装置和台阶仪，所述压力装置用于在待测量膜层上形成沟道，所述沟道的深度与所述待测量膜层的膜厚相等，所述台阶仪用于扫描形成有所述沟道的所述待测量膜层以获取所述沟道的深度，本发明的技术方案通过压力装置以在待测量膜层上形成一与待测量膜层的膜厚相等的沟道，然后再对沟道的深度进行测量，从而实现了对待测量膜层的膜厚的精确测量。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
一种膜厚测量装置，其特征在于，包括：压力装置和台阶仪，所述压力装置用于在待测量膜层上形成沟道，所述沟道的深度与所述待测量膜层的膜厚相等，所述台阶仪用于扫描形成有所述沟道的所述待测量膜层以获取所述沟道的深度。
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