[发明专利]亲水性薄膜以及使用该亲水性薄膜的构件和结构物有效
申请号: | 201410145783.2 | 申请日: | 2009-09-16 |
公开(公告)号: | CN103950253A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 中野佳代;佐藤光;白川康博;日下隆夫;笠松伸矢 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝高新材料公司 |
主分类号: | B32B27/06 | 分类号: | B32B27/06;C09D7/12;C09D5/00;C09D5/14;B01J31/34 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 金明花 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 亲水性薄膜包括基材薄膜以及至少存在于基材薄膜的表面的微粒。微粒由选自氧化钨微粒和氧化钨复合材料微粒的至少1种构成。微粒的平均粒径在1nm以上200nm以下的范围内,且微粒的长宽比在1以上3.5以下的范围内。 | ||
搜索关键词: | 亲水性 薄膜 以及 使用 构件 结构 | ||
【主权项】:
一种亲水性薄膜,其特征在于,包括:基材薄膜,在所述基材薄膜上涂布包含树脂化合物的溶液而形成,厚度在10~200nm的范围内的基底层,以及形成于基底层上,含有以0.001质量%以上50质量%以下的范围包含过渡金属元素的氧化钨复合材料微粒的表面层;所述氧化钨复合材料微粒的平均粒径在1nm以上200nm以下的范围内,且所述微粒的长宽比在1以上3.5以下的范围内,所述表面层的厚度在2nm以上50μm以下的范围内,将基准长度设为100μm时的算数平均粗糙度Ra在1~1000nm的范围内,显示亲水性以及在可见光的照射下的光催化性能。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝高新材料公司,未经株式会社东芝;东芝高新材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410145783.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种有机高分子含磷阻燃剂
- 下一篇:一种稠油破乳剂及其制备方法