[发明专利]高强度细颗粒立方氮化硼单晶及其合成方法和应用有效
| 申请号： | 201410140521.7 | 申请日： | 2014-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN103877914A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 许斌;温振兴;蔡立超;吕美哲;张文;苏海通 | 申请（专利权）人： | 许斌 |
| 主分类号： | B01J3/06 | 分类号： | B01J3/06;C30B29/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250101 山东省济南*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高强度细颗粒立方氮化硼(cBN)单晶，选择Li3N和Ca3N2的混合物作触媒，纯度为98％～99.9％、氧化硼含量0.05％～0.5％、石墨化指数2～5的精制的hBN作为合成原料；Li3N和Ca3N按质量比为10～30：70～90混合组成触媒，触媒和精制的hBN按质量为8～20：80～92。同时本发明还公开该cBN单晶的合成方法及应用。本发明通过选择Li3N和Ca3N2的混合物作触媒，以精制hBN为原料，在较低的合成压力和温度下，合成晶形完整、强度高、耐磨性高、透明性好的细颗粒cBN单晶，适用于高硬度合金铸铁、高铬铁、淬火钢、高温合金等材料的半精加工和精加工，可提高加工精度和加工效率，单位加工成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 强度 颗粒 立方 氮化 硼单晶 及其 合成 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种高强度细颗粒立方氮化硼单晶，其特征是，选择Li3N和Ca3N2的混合物作触媒，纯度为98％～99.9％、氧化硼含量0.05％～0.5％、石墨化指数2～5的精制的hBN作为合成原料；Li3N和Ca3N按质量比为10～30：70～90混合组成触媒，混合触媒和精制的hBN的质量比为8～20：80～92。
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