[发明专利]优化融合的模拟空间光学-电磁屏蔽环境复合暗室有效
| 申请号： | 201410119661.6 | 申请日： | 2014-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN103866997A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 李康;刁海南 | 申请（专利权）人： | 上海一航凯迈光机电设备有限公司 |
| 主分类号： | E04H1/12 | 分类号： | E04H1/12 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 刘懿 |
| 地址： | 201700 上海市青浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 优化融合的模拟空间光学-电磁屏蔽环境复合暗室,暗室为六面方形框架结构，四侧墙内侧和顶棚下方采用龙骨-背架方式遍布挂接安装消光吸波尖劈(5)，即六面方形框架内侧安装由主龙骨(9)和付龙骨(2)构成的网格背架(6)，继而在网格背架(6)上不透光密布挂接吸波基座(4)，吸波基座(4)上安装消光吸波尖劈(5)；消光吸波尖劈(5)的所有可见表面有消光涂层(12)。可同时用于测量微波/红外双模产品的各项特性参数，空间光学环境模拟与空间电磁屏蔽环境模拟达到100%融合；工作区消光率由90%提高到了95%以上，电磁屏蔽效能高，暗室电性能对2GHZ-18GHZ微波信号屏蔽效能为90dB。 | ||
| 搜索关键词： | 优化 融合 模拟 空间 光学 电磁 屏蔽 环境 复合 暗室 | ||
【主权项】：
优化融合的模拟空间光学‑电磁屏蔽环境复合暗室,包括付龙骨(2)、吸波基座(4)、消光吸波尖劈(5)、网格背架(6)、主龙骨(9)和消光涂层(12)；其特征在于，暗室为六面方形框架结构，四侧墙内侧和顶棚下方采用龙骨‑背架方式遍布挂接安装消光吸波尖劈(5)，即六面方形框架内侧安装由主龙骨(9)和付龙骨(2)构成的网格背架(6)，继而在网格背架(6)上不透光密布挂接吸波基座(4)，吸波基座(4)上安装消光吸波尖劈(5)；消光吸波尖劈(5)的所有可见表面有消光涂层(12)。
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