[发明专利]一种砷化镓基外延层剥离转移的方法在审
申请号: | 201410107176.7 | 申请日: | 2014-03-21 |
公开(公告)号: | CN103904015A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 吴立枢;赵岩;程伟 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 | 代理人: | 沈根水 |
地址: | 210016 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明是砷化镓基外延层剥离转移的方法,1)稀释的盐酸清洗砷化镓基外延片和临时衬底表面;2)砷化镓基外延片正面旋涂光刻胶;3)砷化镓基外延片正面朝上放热板上烘烤;4)冷却后与临时衬底正面相对键合;5)将砷化镓基外延片砷化镓衬底去除;6)稀释的盐酸清洗目标衬底和以临时衬底为支撑的外延片表面;7)以临时衬底为支撑的外延片正面旋涂BCB;8)以临时衬底为支撑的外延片正面朝上放在热板上烘烤;9)冷却后与目标衬底正面相对键合;10)将键合完的圆片浸泡在丙酮中,待光刻胶被溶解后目标衬底与临时衬底自动分离。优点:可将砷化镓基外延片上外延层完整转移到任意目标衬底上,工艺简单,转移中不会对砷化镓基外延层造成破坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 砷化镓基 外延 剥离 转移 方法 | ||
【主权项】:
一种砷化镓基外延层剥离转移的方法,其特征是该方法包括以下步骤:1)用稀释的盐酸清洗砷化镓基外延片和临时衬底表面,再用去离子水进行冲洗,然后放入甩干机进行甩干,临时衬底包括玻璃载片、蓝宝石、氮化铝等;2)在砷化镓基外延片的正面旋涂光刻胶作为临时键合材料,转速1000rpm‑5000rpm,时间为30‑60秒;3)将砷化镓基外延片正面朝上放在热板上烘烤2‑5分钟,热板温度90‑120摄氏度;4)待砷化镓基外延片在室温下自然冷却后,将砷化镓基外延片和临时衬底正面相对在温度为180‑200摄氏度的条件下键合;5)将砷化镓基外延片的砷化镓衬底去除,得到了以临时衬底为支撑的外延片;6)用稀释的盐酸清洗目标衬底和以临时衬底为支撑的外延片表面,再用去离子水进行冲洗,然后放入甩干机进行甩干;7)在以临时衬底为支撑的外延片正面旋涂BCB,转速1000rpm‑5000rpm,时间为30‑60秒;8)将以临时衬底为支撑的外延片正面朝上放在热板上烘烤2‑5分钟,热板温度100‑110摄氏度;9)待以临时衬底为支撑的外延片在室温下自然冷却后,将以临时衬底为支撑的外延片和目标衬底正面相对在温度为250‑300摄氏度的条件下键合;10)将键合完的圆片浸泡在丙酮中,待光刻胶被丙酮全部溶解后目标衬底将与临时衬底自动分离。
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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