[发明专利]用于镭射天线LDS沉厚铜的溶液及其使用方法无效
申请号: | 201410088016.2 | 申请日: | 2014-03-11 |
公开(公告)号: | CN103820773A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 卫尉 | 申请(专利权)人: | 上海贺鸿电子有限公司 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201417 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种用于镭射天线LDS沉厚铜的溶液,其特征在于,包括以下组分,铜盐6~16g/l,EDTA乙二胺四乙酸二钠15~40g/l,EDTP四羟丙基乙二胺5~20g/l,柠檬酸钠2~10g/l,甲醛4~15g/l,吡啶类物质2~20mg/l,亚铁氰化钾20~120mg/l,聚乙二醇10~500mg/l,硫脲丙基硫酸盐UPS0~10mg/l。本发明还提供一种用于镭射天线LDS沉厚铜溶液的使用方法,包括以下步骤:(1)把镭射好的LDS浸入所述的溶液进行化学沉厚铜;(2)根据需要镀铜厚度选择沉厚时间,可以得到符合要求的铜镀层。本发明用于镭射天线LDS沉厚铜的溶液使用流程简单,沉积速率高达6um/h,得到的产物内应力低能够满足LDS的生产需要,且能够有效降低生产成本,节约生产流程,适于大规模推广应用。 | ||
搜索关键词: | 用于 镭射 天线 lds 沉厚铜 溶液 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于镭射天线LDS沉厚铜的溶液,其特征在于,包括以下组分:![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海贺鸿电子有限公司,未经上海贺鸿电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410088016.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种整体式面板压电键盘及其误操作的识别方法
- 下一篇:正温度特性合成浆料
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理