[发明专利]一种双层膜结构的高温纳米电热膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201410068843.5 申请日: 2014-02-27
公开(公告)号: CN103796346A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 李毅;袁文瑞;郑鸿柱;陈少娟;陈建坤;孙瑶;唐佳茵;郝如龙;刘飞;方宝英;王小华;佟国香;肖寒 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: H05B3/12 分类号: H05B3/12;H05B3/34;C23C14/35;B32B9/04
代理公司: 上海东创专利代理事务所(普通合伙) 31245 代理人: 宁芝华
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种双层膜结构的高温纳米电热膜,由石英基底、合金薄膜电极、碳化硅和二硅化钼复合膜层组成;利用磁控溅射的方法,先在石英基底上掩膜溅射合金薄膜电极,然后依次沉积碳化硅和二硅化钼膜层;最后再高温退火氧化,将二硅化钼膜层表面氧化成薄的二氧化硅保护层。所述的合金薄膜电极为铂合金薄膜电极或钴基合金薄膜电极。所述电热膜采用了两种纯度为99.950%的高温纳米材料碳化硅和二硅化钼,膜层表面被氧化成耐高温的二氧化硅多晶结构,隔绝了氧气,有效提高了电热膜的寿命和安全系数。本发明利用了这两种材料的优点,工作温度高达1000℃,同时热效率为98%左右,可广泛用于高温加热等技术领域。
搜索关键词: 一种 双层 膜结构 高温 纳米 电热 及其 制备 方法
【主权项】:
一种双层膜结构的高温纳米电热膜,由石英基底、合金薄膜电极、碳化硅和二硅化钼复合膜层组成;其特征在于:先在石英基底上制备合金薄膜电极,然后在镀有合金薄膜电极的石英基底上分别沉积碳化硅膜层和二硅化钼膜层;将二硅化钼膜层表面氧化形成薄的二氧化硅保护层;其中所述的溅射粒子为纳米级,所述的碳化硅和二硅化钼复合膜层的厚度为纳米级。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海理工大学,未经上海理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410068843.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top