[发明专利]一种新型射流冲击冷却的气化工艺烧嘴有效
| 申请号： | 201410037925.3 | 申请日： | 2014-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN103937553A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 赵钦新;陈衡;王云刚;严俊杰;梁志远;李钰鑫;马海东 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | C10J3/50 | 分类号： | C10J3/50 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 何会侠 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 一种新型射流冲击冷却的气化工艺烧嘴，包括中心气化剂通道，与其同轴并依次套装在其外的燃料通道和外气化剂通道，布置在中心气化剂通道和燃料通道之间、燃料通道和外气化剂通道之间以及外气化剂通道外侧的冷却水通道；冷却水通道由进水通道和回水通道组成，在进水通道内布置有冷却水均匀分布装置；进水通道和回水通道之间通过进水通道的下部通道上的若干密排圆孔相连通；高压冷却水进入进水通道后从进水通道下部通道上的若干密排圆孔以射流的形式，冲击喷射到回水通道的壁面上，对其进行高效冷却，然后从回水通道流到冷却水通道的出水口；本发明克服现有技术的气化烧嘴技术的烧嘴冷却效果差、寿命较短的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 射流 冲击 冷却 气化 工艺 | ||
【主权项】：
一种新型射流冲击冷却的气化工艺烧嘴，其特征在于：包括中心气化剂通道(1)，与中心气化剂通道(1)同轴并依次套装在其外的燃料通道(3)和外气化剂通道(4)，布置在中心气化剂通道(1)和燃料通道(3)之间、燃料通道(3)和外气化剂通道(4)之间以及布置在外气化剂通道(4)外的冷却水通道(2)；所述冷却水通道(2)内采用高压冷却水，以强制射流冲击对流换热的方式对中心气化剂通道(1)、燃料通道(3)和外气化剂通道(4)以及冷却水通道(2)自身的金属壁面进行冷却；所述冷却水通道(2)由进水通道(2‑2)和设置在进水通道(2‑2)内外两侧的回水通道(2‑3)组成，所述进水通道(2‑2)和回水通道(2‑3)之间通过进水通道(2‑2)的下部通道上的若干密排圆孔(2‑4)相连通。
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