[发明专利]一种减少全瓷嵌体与洞壁之间的微渗漏的方法无效
申请号: | 201410033308.6 | 申请日: | 2014-01-23 |
公开(公告)号: | CN103800087A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 张亚庆;吕海鹏;王蕾;范晓敏;柴雪 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军第四军医大学 |
主分类号: | A61C13/083 | 分类号: | A61C13/083;A61C5/10 |
代理公司: | 西安睿通知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 61218 | 代理人: | 车宁华 |
地址: | 710032 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明属于牙科微嵌体渗漏防治技术,公开了一种减少全瓷嵌体与洞壁之间的微渗漏的方法。该减少全瓷嵌体与洞壁之间的微渗漏的方法,包括以下步骤:首先在离体牙上制备窝洞;根据窝洞的形状数据制备对应的全瓷嵌体;利用水激光对离体牙表面进行扫描式照射,进行扫描式照射的时间为设定照射时间,在扫描式照射的过程中,水激光的激光头垂直对准离体牙表面,水激光的激光头与离体牙表面的距离保持在设定照射距离;使用质量百分浓度为9.6%的氢氟酸对全瓷嵌体进行酸蚀处理;利用树脂粘结剂将全瓷嵌体粘固于对应的离体牙上,加压,使之与所述窝洞的洞壁贴合。 | ||
搜索关键词: | 一种 减少 嵌体 之间 渗漏 方法 | ||
【主权项】:
一种减少全瓷嵌体与洞壁之间的微渗漏的方法,其特征在于,包括以下步骤:首先在离体牙上制备窝洞;根据窝洞的形状数据制备对应的全瓷嵌体;利用水激光对离体牙表面进行扫描式照射,进行扫描式照射的时间为设定照射时间,在扫描式照射的过程中,水激光的激光头垂直对准离体牙表面,水激光的激光头与离体牙表面的距离保持在设定照射距离;使用质量百分浓度为9.6%的氢氟酸对全瓷嵌体进行酸蚀处理;利用树脂粘结剂将全瓷嵌体粘固于对应的离体牙上,加压,使之与所述窝洞的洞壁贴合。
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