[发明专利]基于小尺寸目标基底的大面积石墨烯转移支撑架及方法有效
| 申请号： | 201410010068.8 | 申请日： | 2014-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN103871946A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 满宝元;张超;姜守振;杨诚;许士才 | 申请（专利权）人： | 山东师范大学 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 杨琪 |
| 地址： | 250014 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于小尺寸目标基底的大面积石墨烯转移支撑架及方法，在金属基底的石墨烯薄膜表面涂覆一层粘合剂，烘烤；剥离金属基底；将石墨烯/粘合剂薄膜漂洗；将目标基底固定凹槽中；将石墨烯/粘合剂薄膜转移至目标基底将丙酮溶液注入凹槽隔断中，烘烤；去除粘合剂；将石墨烯漂洗，取走支撑架上的小尺寸基底，实现石墨烯薄膜的转移；采用上述方法转移的石墨烯能够具有较大的尺寸(厘米级)，保持完整的结构特征，并且操作简单、方便，高效、省时，特别适合数量较多的小尺寸目标基底的石墨烯转移。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 尺寸 目标 基底 大面积 石墨 转移 支撑架 方法 | ||
【主权项】：
一种基于小尺寸目标基底的大面积石墨烯转移支撑架，其特征是，包括排列均匀的至少两个凹槽，所述凹槽和凹槽之间设有凹槽隔断。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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