[发明专利]校准装置、投影仪以及校准方法在审
| 申请号： | 201380071618.0 | 申请日： | 2013-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104956664A | 公开（公告）日： | 2015-09-30 |
| 发明（设计）人： | 原崇之 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H04N5/74 | 分类号： | H04N5/74;G01B11/00;G01B11/26;G03B21/14;G09G5/00;G03B21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 胡琪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于对投影光线的投影单元进行校准的校准装置，包括：成像单元，用于拍摄具有位置和姿态的物体的表面的图像，所述光线通过投影单元投影到所述表面；位置和姿态估计单元，用于基于所述图像来估计所述表面的位置和姿态；反射点估计单元，用于基于估计的位置和估计的姿态来估计反射点，所述光线中的一个光线在该反射点处被表面反射；以及识别单元，用于基于反射点估计单元相对于表面的多个不同位置和/或多个不同的姿态而获得的多个反射点，识别所述光线中的一个光线经过的经过点和所述光线中的一个光线经过所述经过点的方向这两者，或者仅识别所述方向。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 装置 投影仪 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种用于对投影光线的投影单元进行校准的校准装置，所述校准装置包括：成像单元，配置为拍摄具有位置和姿态的物体的表面的图像，所述光线通过投影单元投影到所述表面上；位置和姿态估计单元，配置为基于所述图像来估计所述表面的位置和姿态；反射点估计单元，配置为基于估计的位置和估计的姿态来估计反射点，所述光线中的一个光线在该反射点处被所述表面反射；以及识别单元，配置为基于反射点估计单元相对于表面的多个不同位置和/或多个不同的姿态而获得的多个反射点，识别所述光线中的一个光线经过的经过点和所述光线中的一个光线经过所述经过点的方向这两者，或者仅识别所述方向。
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