[发明专利]用于产生光漫射平整介质的设备在审
| 申请号： | 201380066842.0 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN104871087A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | D·斯库特拉 | 申请（专利权）人： | 易昂概念有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/608 | 分类号： | G03B21/608;A63J5/02 |
| 代理公司： | 北京高文律师事务所 11359 | 代理人： | 程义贵 |
| 地址： | 波兰*** | 国省代码： | 波兰;PL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于产生平整光漫射介质的设备，该设备包括：室(1)，用于介质；风扇(4)，用于吹风；以及通道(6)，用于引导气幕(7)，其特征在于，气幕(7)和投影介质(2)引导通道(6)互相并排排列并且连接，以构成一片通道。多个这种片以构成通道(6)方式一个位于另一个上方，通道(6)以非同轴方式一个位于另一个上方从而保证更好地引导气幕流(5)并且使气幕流(5)稳定为层状流。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生光 漫射 平整 介质 设备 | ||
【主权项】：
一种用于产生平整光漫射介质的设备，该设备包括：室，用于产生色散介质；风扇，用于吹风；以及通道，用于引导具有色散介质的空气，其特征在于，所述气幕(7)和投影介质(2)引导通道(6)相邻排列，构成通道的片，所述多个片以引导通道(6)以非同轴方式一个在另一个上面的方式一个布置另一个上面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于易昂概念有限公司，未经易昂概念有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380066842.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
