[发明专利]涂料组合物和由其制备的具有高耐刮擦性与良好抛光性和良好光学性能的涂层、及其用途在审
申请号: | 201380062844.2 | 申请日: | 2013-10-18 |
公开(公告)号: | CN104903374A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | M·格罗尼沃尔特;B·奥斯特鲁普;K·许布纳;J·穆勒;S·汉宁;A·弗兰克 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫涂料有限公司 |
主分类号: | C08G18/62 | 分类号: | C08G18/62;C08G18/72;C08G18/80;C09D175/04;C08G18/28 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐国栋;林柏楠 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明提供非水涂料组合物,所述组合物包含:(A)至少一种含多羟基化合物,(B1)至少一种具有游离或封端异氰酸酯基团且具有脂环族多异氰酸酯母体结构和/或由其衍生的多异氰酸酯的含多异氰酸酯基团化合物(B1),(B2)至少一种具有游离或封端异氰酸酯基团且具有无环脂族多异氰酸酯母体结构和/或由其衍生的多异氰酸酯的含多异氰酸酯基团化合物(B2),(D)至少一种用于使硅烷基团交联的催化剂,和(R)至少一种基于热解法二氧化硅的流变辅助剂(R),其中组分(B1)和/或组分(B2)包含至少一个结构单元(I),和/或至少一个结构单元(II),化合物(B1)以一定量使用,使得(B1)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量每种情况下基于(B1)加(B2)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量之和为5-45重量%,且组分(B1)加(B2)的混合物包含结构单元(I)和结构单元(II)。本发明进一步提供多阶段涂覆方法以及涂料组合物的用途。-NR-(X-SiR”x(OR')3-x) (I)-N(X-SiR”x(OR')3-x)n(X'-SiR”y(OR')3-y)m(II)。 | ||
搜索关键词: | 涂料 组合 制备 具有 高耐刮擦性 良好 抛光 光学 性能 涂层 及其 用途 | ||
【主权项】:
非水涂料组合物,其包含:(A)至少一种含多羟基化合物(A),(B1)至少一种含多异氰酸酯基团化合物(B1),其具有游离或封端异氰酸酯基团,且具有脂环族多异氰酸酯母体结构和/或通过三聚、二聚、形成氨基甲酸酯、形成缩二脲、形成脲二酮和/或形成脲基甲酸酯而衍生自一种这类脂环族多异氰酸酯的多异氰酸酯母体结构,(B2)至少一种不同于组分(B1)的含多异氰酸酯基团化合物(B2),其具有游离或封端异氰酸酯基团,且具有无环脂族多异氰酸酯母体结构和/或通过三聚、二聚、形成氨基甲酸酯、形成缩二脲、形成脲二酮和/或形成脲基甲酸酯而衍生自一种这类无环脂族多异氰酸酯的多异氰酸酯母体结构,(D)至少一种用于使硅烷基团交联的催化剂(D),和(R)至少一种基于热解法二氧化硅的流变辅助剂(R),其中组分(B1)和/或组分(B2)包含至少一个式(I)结构单元:‑NR‑(X‑SiR”x(OR')3‑x) (I)和/或至少一个式(II)结构单元:‑N(X‑SiR”x(OR')3‑x)n(X'‑SiR”y(OR')3‑y)m (II)其中:R=氢、烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可被不相邻的氧、硫或NRa基团间隔,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,R'=氢、烷基或环烷基,其中碳链可被不相邻的氧、硫或NRa基团间隔,X、X'=具有1‑20个碳原子的线性和/或支化亚烷基或亚环烷基,R”=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可被不相邻的氧、硫或NRa基团间隔,n=0~2,m=0~2,m+n=2,且x、y=0~2,条件是:(i)组分(B1)以一定量使用,使得组分(B1)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量为5‑45重量%,每种情况下基于组分(B1)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量加组分(B2)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量之和,且(ii)组分(B1)加(B2)的混合物包含结构单元(I)和结构单元(II)。
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