[发明专利]用于含铜导体的保护罩有效
申请号: | 201380054246.0 | 申请日: | 2013-11-05 |
公开(公告)号: | CN104981914A | 公开(公告)日: | 2015-10-14 |
发明(设计)人: | 罗伯特斯-阿德里亚努斯-玛利亚·沃尔特斯;约翰尼斯-雷恩德-马克·卢切斯;克拉斯·赫勒斯 | 申请(专利权)人: | M4SI公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黎艳;何冲 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 制造太阳能电池的方法包括如下步骤:(a)在气相沉积装置的沉积室中提供半导体衬底,所述半导体衬底包括在其第一侧的钝化层,所述钝化层图形化以限定含铜导体所存在的接触区域;(b)向沉积室供应气态硅种,导致在含铜导体的表面上形成铜硅化物表面层并且在钝化层的顶部上形成非晶硅;以及(c)在表面层提供绝缘硅化合物保护层,其中所述保护罩包括表面层和保护层。 | ||
搜索关键词: | 用于 导体 护罩 | ||
【主权项】:
一种制造包括含铜导体的太阳能电池的方法,所述含铜导体上覆盖有位于半导体衬底上的保护罩,所述方法包括如下步骤:在气相沉积装置的沉积室中提供半导体衬底,所述半导体衬底包括在其第一侧的钝化层,所述钝化层被图形化,以限定含铜导体所存在的接触区域;向沉积室供应气态硅种,使得在含铜导体的表面上形成铜硅化物的表面层并在钝化层的顶部上形成非晶硅;以及在所述表面层上提供绝缘硅化合物保护层,其中所述保护罩包括所述表面层和所述保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于M4SI公司,未经M4SI公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380054246.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的