[发明专利]中空颗粒的制备方法、中空颗粒、减反射涂层和光学元件在审

专利信息
申请号: 201380038551.0 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN104487386A 公开(公告)日: 2015-04-01
发明(设计)人: 龟野优;大金政信;奥山喜久夫 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: C01F5/28 分类号: C01F5/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供中空颗粒和中空颗粒的制备方法。颗粒的壳是含有氟化镁的连续层,因此强度高。中空颗粒具有含有氟化镁的连续的壳和至少部分被除去的中空核。中空颗粒的制备方法包括:形成具有核颗粒和含有氟化镁的连续的壳的核-壳颗粒,和从该核-壳颗粒将该核颗粒的至少一部分除去以制备中空核。通过在10℃-30℃(包括两个端点)的温度下将镁盐的水溶液和含有氟离子的水溶液添加到含有核颗粒的水分散体中,然后在50℃-80℃(包括两个端点)的温度下将合并的液体加热,能够形成核-壳颗粒。
搜索关键词: 中空 颗粒 制备 方法 反射 涂层 光学 元件
【主权项】:
中空颗粒的制备方法,包括:通过将含有核颗粒的水分散体、含有镁的水溶液和含有氟的水溶液合并以形成合并的液体,并且将该合并的液体加热,从而形成各自具有核颗粒和含有氟化镁的壳的核‑壳颗粒;和将该核颗粒的至少一部分从各个核‑壳颗粒中除去。
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